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EVG 520HE 熱壓印系統(tǒng)用于對熱塑性基材進行高精度壓印。 EVG的這種經(jīng)過生產(chǎn)驗證的系統(tǒng)可以接受直徑大為200 mm的基板，并且與標準的半導(dǎo)體制造技術(shù)兼容...

具有紫外線納米壓印功能的通用研發(fā)掩膜對準系統(tǒng)，從小件到大150毫米

EVG 520HE 熱壓印系統(tǒng)用于對熱塑性基材進行高精度壓印。 EVG的這種經(jīng)過生產(chǎn)驗證的系統(tǒng)可以接受直徑大為200 mm的基板，并且與標準的半導(dǎo)體制造技術(shù)兼容...

高度靈活的熱壓印系統(tǒng)，用于研發(fā)和小批量生產(chǎn)

自動化SmartNIL UV納米壓印光刻；具有EVG專有的SmartNIL®技術(shù)的自動全場UV納米壓印解決方案（大200毫米）大面積的共形納米壓印光刻

EVG7200 自動化SmartNIL UV納米壓印光刻；具有EVG專有的SmartNIL®技術(shù)的自動全場UV納米壓印解決方案（大200毫米）

具有EVG專有的SmartNIL®技術(shù)的自動全場UV納米壓印解決方案（大150毫米）

具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準系統(tǒng)，采用EVG專有的SmartNIL®技術(shù)，大可達150 mm

具有UV納米壓印功能的通用掩模對準系統(tǒng)，采用EVG專有的SmartNIL®技術(shù)，大可達100 mm

具有紫外線納米壓印功能的通用研發(fā)掩膜對準系統(tǒng)，從小件到大150毫米

納米壓印技術(shù)主要應(yīng)用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS納米壓印工藝，LED納米透鏡陣列；微流體學(xué)；芯片實驗室；抗反射層；納米壓印光柵；蓮花效應(yīng)；光子帶隙...

納米壓印技術(shù)主要應(yīng)用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS納米壓印工藝，LED納米透鏡陣列；微流體學(xué)；芯片實驗室；抗反射層；納米壓印光柵；蓮花效應(yīng)；光子帶隙...