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反應離子刻蝕機 參考價：面議
反應離子刻蝕機我們的等離子蝕刻設備包括用功能強大的用戶友好軟件與模擬圖形用戶界面，參數窗口，工藝窗口，數據記錄和用戶管理。
英國光柵刻蝕 參考價：面議
英國光柵刻蝕三螺旋平行板天線(PTSA)等離子源是SENTECH等離子體工藝設備的屬性。PTSA源能生成具有高離子密度和低離子能量的均勻等離子體。它具有高耦合效...
ZEISS掃描顯微鏡 參考價：面議
ZEISS掃描顯微鏡系列將高性能的掃描電鏡和直觀的、友好的用戶界面體驗結合在一起， 同時能夠吸引經驗豐富的用戶以及新用戶。無論是在生命科學， 材料科學， 或例行...
雙束電鏡 參考價：面議
雙束電鏡借助這款掃描電子顯微鏡的超快速度,開啟您對新維度的探索?，F如今,在MultiSEM出色的圖像采集速度推動下,您終于能夠以納米級的圖像分辨率對大型樣品進行...
掃描電鏡 參考價：面議
掃描電鏡操作直觀的模塊化掃描電子顯微鏡(SEM)平臺適用于日常檢測與研究應用，高可用性：EVO配備的兩種用戶界面(SmartSEMTouch和SmartSEM)...
雙束掃描電鏡 參考價：面議
雙束掃描電鏡借助這款掃描電子顯微鏡的超快速度,開啟您對新維度的探索。現如今,在MultiSEM出色的圖像采集速度推動下,您終于能夠以納米級的圖像分辨率對大型樣品...
3D掃描電鏡 參考價：面議
蔡司3D掃描電鏡是一款具有處理各種材料能力的分析型顯微鏡，為您提供優異的成像品質。
日本傾斜角刻蝕 參考價：面議
日本傾斜角刻蝕代表了直接置片等離子刻蝕機家族，它結合了RIE的平行板電極設計和直接置片的成本效益設計的優點。Etchlab200的特征是簡單和快速的樣品加載，從...
SENTECH二維材料刻蝕 參考價：面議
SENTECH二維材料刻蝕能夠在低溫100°C下高均勻度和高保形性地覆蓋敏感襯底和膜層，在樣品表面提供高通量的反應性氣體，而不受紫外線輻射或離子轟擊。
德國電子束曝光 參考價：面議
德國電子束曝光主要功能：曝光速度快精度高，可采用大寫場大束流進行曝光，適用于科研及小批量生產中使用；自動化程度高，除了放樣取樣外，整個曝光過程只需要編輯曝光的相...
國產電子束光刻 參考價：面議
國產電子束光刻主要功能：曝光速度快精度高，可采用大寫場大束流進行曝光，適用于科研及小批量生產中使用；自動化程度高，除了放樣取樣外，整個曝光過程只需要編輯曝光的相...
進口深硅刻蝕 參考價：面議
進口深硅刻蝕：三螺旋平行板天線(PTSA)等離子源是SENTECH等離子體工藝設備的屬性。PTSA源能生成具有高離子密度和低離子能量的均勻等離子體。它具有高耦合...
靈活的自動掃描系統 參考價：面議
靈活的自動掃描系統低成本桌面式壽命測量系統，用于手動操作表征不同制備階段的各種不同硅樣品?？蛇x的手動操作Z軸用于厚度多達156毫米的樣品。標準軟件可輸出可視化的...
靈活的自動掃描系統 參考價：面議
靈活的自動掃描系統MDPmap設計用于離線生產控制或研發、測量少子壽命、光電導率、電阻率和缺陷信息等參數的小型臺式無觸點電特性測量儀器，在穩態或短脈沖激勵下(μ...
激光掃描系統 參考價：面議
激光掃描系統該儀器被設計用于工藝和材料的質量監控，例如單晶或多晶硅。多晶硅磚切割標準的自動輸出。能夠根據爐子的輸出質量進行單獨的爐子監控進行優化和決定投資。MD...
在線壽命和電阻率掃描儀 參考價：面議
在線壽命和電阻率掃描儀電池生產線的進料質量調查是常見的應用案例，以及在鈍化和擴散之后的工藝質量檢查，在許多其他的專業應用領域也有很大的可能性。只需要集成以太網連...
快速自動掃描系統 參考價：面議
快速自動掃描系統MDPinline ingot系統是可用于多晶硅電氣特性的快的測量工具。它被設計用于高產量生制造工廠的研究用途。每塊磚都可以在不到兩分鐘的時間里...
少子壽命測試儀 參考價：面議
少子壽命測試儀MDPinline是一個用于定量測量少子壽命的緊湊型高速生產集成自動掃描系統。當晶片通過傳送裝置移動到儀器下面時，一片晶片的形貌測量在一秒鐘的時間...
薄膜反射和透射的在線監測系統 參考價：面議
薄膜反射和透射的在線監測系統RT inline 薄膜測量系統是為沉積過程的在線質量控制而設計的。該方法基于SENTECH著名的薄膜厚度探針FTPadv，用于測量...
自動掃描薄膜測量儀器 參考價：面議
自動掃描薄膜測量儀器SenSol自動掃描儀器設計用于玻璃薄膜光伏制造中薄膜性能的質量控制的在線測量。大量的傳感器可以集成到SenSol傳感器平臺中。這也允許特定...
激光橢偏儀 參考價：面議
激光橢偏儀SE 800 PV是分析結晶和多晶硅太陽能電池防反射膜的理想工具?？梢詼y量單層薄膜(SiNx、SiO2、TiO2、Al2O3)和多層疊層膜(SiNX/...
激光橢偏儀 參考價：面議
激光橢偏儀多角度SE 400adv PV在632.8nm的氦氖激光波長下，在紋理化的單晶和多晶硅片上提供防反射單膜的膜厚和折射率?？筛鼡Q的晶片載片器允許對多晶晶...
晶體硅太陽電池 參考價：面議
晶體硅太陽電池SENperc PV是為PERC太陽能電池制造質量控制而設計的。它測量SiO2、Al2O3和SiNX單層膜和疊層膜，這些單層膜和疊層膜用于PERC...
綜合薄膜測量軟件 參考價：面議
綜合薄膜測量軟件集成的色散模型用于描述所有常用材料的光學特性。利用快速擬合算法，通過改變模型參數將計算得到的光譜調整到實測光譜。
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