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天津中環電爐股份有限公司 天津中環電爐股份有限公司
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CVD系統
詳細摘要:CVD系統系周期作業,供企業實驗室,大專院校,科研院所等單位選用,設備為用戶提供具體真空、可控氣氛及高溫的實驗環境,應用在半導體,納米技術,碳纖維等新材料新工藝領域。
產品型號:所在地:天津市北辰區北辰科技園區雙川道11號 參考價:面議
3D陶瓷打印機II型
詳細摘要:3D打印陶瓷技術的引進,充分利用并挖掘3D打印技術的特點,可實現開發新型、*特色的陶瓷產品,采用通用陶瓷原料,如中白泥、高白泥、瓷泥、陶泥等原料。通過氣動、電動聯合驅動模式,將含水陶瓷泥料送入3D打印機打印頭,通過預先設計的三維模型,實現陶瓷的三維自由成型,整體成型過程快速、清潔、高效,并呈現出與傳統工藝不同的特點
產品型號:所在地: 參考價:面議
陶瓷3D打印設備 I型
詳細摘要:3D打印陶瓷技術的引進,充分利用并挖掘3D打印技術的特點,可實現開發新型、*特色的陶瓷產品,采用通用陶瓷原料,如中白泥、高白泥、瓷泥、陶泥等原料。通過氣動、電動聯合驅動模式,將含水陶瓷泥料送入3D打印機打印頭,通過預先設計的三維模型,實現陶瓷的三維自由成型,整體成型過程快速、清潔、高效,并呈現出與傳統工藝不同的特點。
產品型號:所在地: 參考價:面議
多通道模塊化燒結系統
詳細摘要:多通道模塊化燒結系統
產品型號:所在地:天津市中環電爐股份有限公司 參考價:面議
1200℃預加熱滑動雙溫區PECVD系統
詳細摘要:PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學活性很強,很容易發生反應,在基片上沉積出所期望的薄膜。
產品型號:所在地: 參考價:面議
1200℃集成型自動小型PECVD系統
詳細摘要:PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學活性很強,很容易發生反應,在基片上沉積出所期望的薄膜。集成型PECVD系統PECVD-12IH-500A、1200℃小型PECVD系統PECVD-12IH-4Z/G
產品型號:所在地:天津市北辰北辰科技園區雙川道11號 參考價:面議
1200度小型PECVD系統
詳細摘要:PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學活性很強,很容易發生反應,在基片上沉積出所期望的薄膜。集成型PECVD系統PECVD-12IH-500A、1200℃小型PECVD系統PECVD-12IH-4Z/G
產品型號:所在地:天津市北辰區北辰科技園區雙川道11號 參考價:面議
質量流量控制系統
詳細摘要:操作便捷性:1、方便的氣路快速連接口,簡化了流量控制系統與其他設備的鏈接。2、配置有三種接口(寶塔式接口、雙卡套式接口、KF接口),方便組合多種連接方式。
產品型號:所在地:天津市北辰區北辰科技園區雙川道11號 參考價:面議
浮子流量控制系統
詳細摘要:操作便捷性:1、方便的氣路快速連接口,簡化了流量控制系統與其他設備的鏈接。2、配置有三種接口(寶塔式接口、雙卡套式接口、KF接口),方便組合多種連接方式。
產品型號:所在地:天津市北辰區北辰科技園區雙川道11號 參考價:面議
觸屏質量流量控制系統
詳細摘要:操作便捷性:1、方便的氣路快速連接口,簡化了流量控制系統與其他設備的鏈接。2、配置有三種接口(寶塔式接口、雙卡套式接口、KF接口),方便組合多種連接方式。
產品型號:所在地:天津市北辰區北辰科技園區雙川道11號 參考價:面議
中真空控制系統
詳細摘要:操作便捷性:1、抽氣口及氣路連接口采用KF式快速連接結構。簡化安裝過程,只需用卡箍便可完成連接,方便操作。2、配置兩種電源連接線,即可直接與我公司的產品直接連接組合使用,也可單獨連接都室內電源獨立使用。
產品型號:所在地:天津市北辰區北辰科技園區雙川道11號 參考價:面議
高真空擴散泵控制系統
詳細摘要:操作便捷性:抽氣口及氣路連接口采用KF式快速連接結構。簡化安裝過程,只需用卡箍便可完成連接,方便操作 。
產品型號:所在地:天津市北辰區北辰科技園區雙川道11號 參考價:面議
高真空分子泵控制系統
詳細摘要:操作便捷性:抽氣口及氣路連接口采用KF式快速連接結構。簡化安裝過程,只需用卡箍便可完成連接,方便操作 。
產品型號:所在地: 參考價:面議
1200℃滑動式單溫區/雙溫區/三溫區CVD系統
詳細摘要:產品用途:此款CVD系統適用于CVD工藝,如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結真空淬火退火,快速降溫等工藝實驗。
產品型號:所在地: 參考價:面議
1200℃雙管滑動式單溫區/多溫區CVD系統
詳細摘要:產品用途:此款CVD系統是專門為在金屬箔上生長薄膜而設計,特別是應用在新一代能源關于柔性金屬箔電極方面的研究,通過滑動爐實現快速加熱和冷卻。
產品型號:所在地: 參考價:面議
1200℃雙溫區CVD系統
詳細摘要:CVD管式爐設備由沉積溫度控件、沉積反應室、真空控制部件和氣源控制備件等部分組成亦可根據用戶需要設計生產,CVD系統除了主要應用在碳納米材料制備行業外,現在正在使用在許多行業,包括納米電子學、半導體、光電工程的研發、涂料等領域。
產品型號:所在地: 參考價:面議

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