本設備適用于在涂膠前對品片進行預處理設備由腔體、真空、加熱、充氮、加液及控制等系統組成通過多次預抽真空,熱氮加熱,既能達到使硅片表面干燥、潔凈的效果,又能夠有效的防止硅片的氧化和雜質的擴散,并且可以通過加液系統在硅片表面開成HDMS保護膜，從而使硅片具有良好的涂膠性能和手工涂布HMDS相比,具有重復性好,節省藥液,環保,對人體無害的顯著優點;也可用于品片其它工藝的清洗控制采用PLC,人機界面采用觸摸屏,具有可靠性高,操作方便、直觀等特點

整機尺寸:600*620*1260mm

真空腔尺寸:450*450*400mm

真空泵:2X2-4機械泵

腔體溫度:室溫+50°C-160°C 可調

設備控制:plc、觸控

控制方式:手動/自動

生產能力:每小時200片(2”)或50片(4”)

熱板功率:1.5KW

設備功率:2KW

電源輸入:AC220V

在HMDS工藝之前有和沒有脫水的HMDS涂覆表面的行為