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化工儀器網>產品展廳>物理特性分析儀器>測厚儀>在線測厚儀> 日本Otsuka大塚FE-300光譜分析膜厚量測儀

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日本Otsuka大塚FE-300光譜分析膜厚量測儀

具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 成都藤田科技有限公司
  • 品牌 OTSUKA/日本大塚
  • 型號
  • 產地
  • 廠商性質 代理商
  • 更新時間 2025/2/21 14:31:29
  • 訪問次數(shù) 188

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公司簡介

COMPANY INTRODUCTION

成都藤田科技有限公司經營進出口業(yè)務7年有余,位于西南地區(qū)四川成都;通過不斷努力、進步與各類日本、部分歐美品牌建立長期穩(wěn)定的合作關系,覆蓋電子產品、工具、電子元器件、儀器儀表、防靜電設備、輔料、自動化設備、非危險性化工產品、機械設備及配件、通信設備。

成都藤田科技供貨渠道

因為長期良好的經營環(huán)境,獲得國內外客戶與商社的喜愛,隨著互聯(lián)網的發(fā)展建立了專有的網絡模式MRO;

堅持以服務客戶為主的經營理念、追求客戶滿意服務為宗旨、禮貌誠信為原則提供客戶服務,并以成為客戶值得信賴的工業(yè)品綜合服務商為目標。

MRO兩種形式

  1. 超市建立工業(yè)品專柜,大型超市也會經營部分工業(yè)品,但種類和數(shù)量有限。

  2. 網上工業(yè)品超市,這種形式配送可為客戶大規(guī)模找尋產品,使供應商和采購商都實現(xiàn)“進入一個點,得到一大片”連鎖效應,有效降低采購商采購成本。

代理品牌:


代理品牌:

半自動 全自動定制設備。

Epson愛普生(機器人/機械臂)

ATTEN安泰信(焊接產品)

日本日本三鍵ThreeBond(膠水)

日本ESTIC艾斯迪克(擰緊工具)

日本MUSASHI武藏(點膠機)

日本HOYA豪雅(UV固化燈,玻璃鏡片)

日本SIGMAKOKI西格瑪(光學元件、物鏡等)

日本YUMEX優(yōu)美科思(各種疝氣燈)

日本TOKISANGYO東機產業(yè)(粘度計)

日本KANOMAX加野(風速儀)

日本YAMADA雅瑪達(隔膜泵)

日本EPSON愛普生(機械臂)

日本TSUBOSAN壺三(銼刀工具)

韓國DIT東日技研(除靜電產品)

韓國HANIL韓一(攪拌機)

優(yōu)勢品牌:

日本Otsuka大塚電子(晶圓、覆膜測厚儀)

日本分光JASCO(光譜儀、光度計、色譜儀)

日本FLUORO福樂(用于晶圓的搬運)

日本MITUTOYO三豐(測量器具)

日本AND艾安得(微量電子分析天平)

英國Meech密其(非接觸式除塵系統(tǒng))

日本SSD西西蒂(防靜電設備)

日本NEW-COSMOS 新宇宙(氣體檢測儀)

YIZOMO一子沫(拉拔機)

日本FURUPLA富如拉(噴壺)

日本PISCO匹士克(氣動元件)

美國MEISEI(熱剝線鉗)

日本TECHNO特古羅(錫爐)

日本AMANO安滿能(除塵設備)

日本MALCOM馬康(粘度計)

日本HOZAN寶山(鑷子、鉗子等工具)

美國SIMCO思美高(防靜電、除塵產品);



成都藤田科技為廣大客戶提供一體化、全面、優(yōu)質高效服務。





Epson愛普生機器人,安泰信焊錫設備(半自動/全自動),視覺成像,武藏點膠機

產地類別 進口 價格區(qū)間 面議
應用領域 綜合

日本Otsuka大塚FE-300光譜分析膜厚量測儀-成都藤田科技提供

日本Otsuka大塚FE-300光譜分析膜厚量測儀


產品信息

特殊長度

● 支持從薄膜到厚膜的各種薄膜厚度

● 使用反射光譜分析薄膜厚度

● 實現(xiàn)非接觸、非破壞的高精度測量,同時體積小、價格低

● 簡單的條件設置和測量操作!任何人都可以輕松測量薄膜厚度

● 通過峰谷法、頻率分析法、非線性最小二乘法、優(yōu)化法等,可以進行多種膜厚測量。

● 非線性最小二乘法薄膜厚度分析算法可以進行光學常數(shù)分析(n:折射率,k:消光計數(shù))。

測量項目

反射率測量

膜厚分析(10層)

光學常數(shù)分析(n:折射率,k:消光計數(shù))

測量對象

功能膜、塑料
透明導電膜(ITO、銀納米線)、相位差膜、偏光膜、AR膜、PET、PEN、TAC、PP、PC、PE、PVA、粘合劑、膠粘劑、保護膜、硬涂層、防指紋, 等等。

半導體
化合物半導體、Si、氧化膜、氮化膜、Resist、SiC、GaAs、GaN、InP、InGaAs、SOI、藍寶石等。

表面處理
DLC涂層、防銹劑、防霧劑等。

光學材料
濾光片、增透膜等。

FPD
LCD(CF、ITO、LC、PI)、OLED(有機膜、封裝材料)等

其他
HDD、磁帶、建筑材料等


原理

測量原理

大冢電子利用光學干涉儀和自有的高精度分光光度計,實現(xiàn)非接觸、無損、高速、高精度的薄膜厚度測量。光學干涉測量法是一種使用分光光度計的光學系統(tǒng)獲得的反射率來確定光學膜厚的方法,如圖 2 所示。以涂在金屬基板上的薄膜為例,如圖1所示,從目標樣品上方入射的光被薄膜表面(R1)反射。此外,穿過薄膜的光在基板(金屬)和薄膜界面(R2)處被反射。測量此時由于光程差引起的相移所引起的光學干涉現(xiàn)象,并根據得到的反射光譜和折射率計算膜厚的方法稱為光學干涉法。分析方法有四種:峰谷法、頻率分析法、非線性最小二乘法和優(yōu)化法。

日本Otsuka大塚FE-300光譜分析膜厚量測儀

規(guī)格

規(guī)格

類型薄膜型標準型
測量波長范圍300-800nm450-780nm
測量膜厚范圍
(SiO 2換算)
3nm-35μm10nm-35μm
光斑直徑φ3mm / φ1.2mm
樣本量φ200×5(高)mm
測量時間0.1-10s內
電源AC100V ± 10% 300VA
尺寸、重量280 (W) x 570 (D) x 350 (H) 毫米,24 公斤
其他參考板,配方創(chuàng)建服務


設備配置

光學家譜

日本Otsuka大塚FE-300光譜分析膜厚量測儀  


軟件畫面

日本Otsuka大塚FE-300光譜分析膜厚量測儀


日本Otsuka大塚FE-300光譜分析膜厚量測儀-成都藤田科技提供













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