| 應用領域 | 綜合 | 分辨率 | 10μV |
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電化學工作站型號：BN/CS300M
電化學工作站
? 電流控制范圍：±2.0A
? 內置FPGA DDS信號合成器
? 高帶寬高輸入阻抗的放大器
? 電壓控制范圍：±10V，槽壓為±21V
? 高功率恒電位儀/恒電流儀/零電阻電流計
? 內置FRA頻響分析儀，頻率范圍 10μHz ~1MHz
? 電位分辨率：10μV，電流分辨率：1pA（可延伸至100fA）
? 雙道相關分析器和雙通道高速16bit /高精度24bit AD轉換器
應用
? 電化學分析研究
? 金屬材料的腐蝕行為研究與耐蝕性評價
? 緩蝕劑、水質穩定劑、涂層以及陰極保護效率的快速評價
? 電合成、電沉積（電鍍）、陽極氧化、電解等反應機理研究
? 能源材料（鋰離子電池、太陽能電池、燃料動力電池和超級電容器等）、先進功能材料以及傳感器的性能研究
硬件參數指標
恒電位控制范圍 | ±10V |
恒電流控制范圍 | ±2.0A |
電位控制精度 | 0.1%×滿量程讀數±1mV |
電流控制精度 | 0.1%×滿量程讀數 |
電位靈敏度 | 10μV(>100Hz), 3μV(<10Hz) |
電流靈敏度 | 1pA |
電位上升時間 | ﹤1μS(<10mA),<10μS(<2A) |
電流量程 | 2nA～2A, 共10檔 |
參比電極輸入阻抗 | 1012Ω||20pF |
較大輸出電流 | 2.0A |
槽壓輸出 | ±21V |
電流掃描增量 | 1mA @1A/mS |
CV和LSV掃描速度 | 0.001mV～10000V/s |
電位掃描電位增量 | 0.076mV @1V/mS |
CA和CC脈沖寬度 | 0.0001～65000s |
DPV和NPV脈沖寬度 | 0.0001～1000s |
SWV頻率 | 0.001～100KHz |
CV的較小電位增量 | 0.020mV |
AD數據采集 | 16bit@3.6MHz，20bit @1KHz |
電流與電位量程 | 自動設置 |
DA分辨率 | 16bit，建立時間：1μS |
低通濾波器 | 8段可編程 |
通訊接口 | USB2.0、RJ45網口 |
儀器重量 | 7.6Kg |
外形尺寸（cm） | 36.4(W)*32.0(D)*13.8(H) |
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