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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>薄膜生長設備>化學氣相沉積設備>Propel 300mm GaN 金屬化學氣相沉積MOCVD

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Propel 300mm GaN 金屬化學氣相沉積MOCVD

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深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術服務的高新技術企業。

致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設備、半導體光電測試儀表及相關儀器裝備維護、保養、售后技術支持及實驗室整體服務。

公司目前已授實用新型權利 29 項,軟件著作權 14 項,是創新型中小企業、科技型中小企業、規模以上工業企業。










冷熱臺,快速退火爐,光刻機,納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發

Propel™ 300mm全自動單晶圓簇系統是經過行業驗證的GaN MOCVD工具,能夠在300mm襯底上生產5G RF、Photonic和先進的CMOS器件。

Propel 300mm 系統采用單晶圓反應器平臺,能夠在 300mm 晶圓上生產的高質量外延膜,具有出色的均勻性、可重復性和產量。Propel 300mm 系統可配置多達 3 個模塊化集群室,并提供自動化的膜包到膜包處理,以實現最大的靈活性和生產率。

單晶圓反應器基于 Veeco  TurboDisc® 設計,包括 IsoFlange™ 和 SymmHeat™ 技術,可在整個晶圓上提供層流和均勻的溫度分布。客戶可以輕松地將工藝從 Veeco 單晶圓反應器 Propel 和 Propel HVM 系統轉移到 Propel 300mm GaN MOCVD 系統,以便快速開發到生產。




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