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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>離子注入設備>離子注入機>Ionfab 300 IBD 離子束沉積

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Ionfab 300 IBD 離子束沉積

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離子束沉積

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深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術服務的高新技術企業。

致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設備、半導體光電測試儀表及相關儀器裝備維護、保養、售后技術支持及實驗室整體服務。

公司目前已授實用新型權利 29 項,軟件著作權 14 項,是創新型中小企業、科技型中小企業、規模以上工業企業。










冷熱臺,快速退火爐,光刻機,納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發

  • 多模式功能

  • 能夠與其它等離子體刻蝕和沉積設備相集成

  • 單晶圓傳送模式或集群式晶圓操作

  • 雙束流配置

  • 更低的表面薄膜粗糙度

  • 更佳的批次均勻性和工藝重復性

  • 準確終點監測 —— SIMS,發射光譜

    產品特點

  • 質量薄膜高 ——超低污染

  • 產量高,緊湊的系統體積設計-——運行成本低

  • 高速襯底架(高達1000RPM)設計,并配備了白光光學監視器(WLOM)——更為精確的實時光學薄膜控制

  • 配置靈活 ——適于先進的研究應用

  • 靈活的晶圓操作方式 —— 直開式、單晶圓傳送模式或者帶機械手臂的盒對盒模式

    應用

  • 磁阻式隨機存取存儲器(MRAM)

  • 介電薄膜

  • III-V族光電子材料刻蝕

  • 自旋電子學

  • 金屬電極和軌道

  • 超導體

  • 激光端面鍍膜

  • 高反射(HR)膜

  • 防反射(AR)膜

  • 環形激光陀螺反射鏡

  • X射線光學系統

  • 紅外(IR)傳感器

  • II-VI族材料

  • 通信濾波器




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