New ClippIR+ AnalyzeIT濕法過程分析儀
ABB用于半導體工業中濕法過程在線、實時監測和控制的解決方案
在半導體制造業中，對濕法化學過程進行連續監測可以提高產量，降低故障率，使生產利潤

在半導體制造業中，為了提高企業的生產能力和產品質量，降低生產成本，需要對相關的濕法過程進行精確的控制。ABB公司的濕法過程分析儀（WPA）可以對各種刻蝕液、清洗液和去光膠液的化學濃度進行連續的在線監測，并為實時過程控制提供了必要的信息。
采用實時過程監測，企業能從化學制品有效期的延長、消耗與浪費的減少以及實驗室測量工作的減輕等方面提高成本效益。實踐表明，將SC1、SC2等清洗液的使用壽命延長25%到30%，WPA的投資成本一般可以在一年內收回。對于一些通用的有機化學試劑，它的成本回收期大約只有6個月左右。
WPA具有許多的技術優勢，它能夠對濕法過程中使用的30多種不同的溶液（見下頁的列表）進行監測。另外，ABB公司還可以根據客戶的具體要求定制專門的標準曲線。
WPA系統中包含的FTSW100過程控制軟件，可以實現分析儀與濕法過程的集成。除了能夠顯示在過程流中監測到的各種化學成分的濃度值及其變化趨勢外，該軟件還有自動數據存儲功能，當某些數值超出了許可范圍時，該軟件還會發出警告或報警。當清洗液成分不符合要求時，軟件會報警通知操作人員，同時使設備自動阻擋清洗液的流入。

非接觸式紅外檢測
WPA主機為傅立葉變換近紅外光譜儀（FT-NIR），這種光譜儀通過光纖連接到名為ClippIR+的Teflon檢測池。一次最多可以使用8個ClippIR+來同時監測各種化學溶液。ClippIR+的創新設計可以使其能夠很容易地固定在現有管道的外表面上。穿過ClippIR+的紅外光使系統可以直接監測管道內的化學物濃度，而不會造成任何污染。
ClippIR+專為半導體應用而設計，能夠安裝在任何尺寸的Teflon管上。由于它體積小，因此可以安裝在很小的化學箱體之上，或者安裝在濕法設備的其它任何部件之內。另外，它還具有抵抗化學腐蝕的能力，可以在強腐蝕性環境中使用。
FTPA-2000系列光譜儀可以在惡劣的工業條件下使用，它具有很小的外形尺寸（43×41×18厘米），可以安裝在離ClippIR+遠達100米處。它既可以在潔凈室外作為一個獨立的裝置單獨使用，也可以集成在整個過程分析儀系統中使用。


FTSW100過程控制軟件中的測量屏幕將顯示各種成份的濃度值與變化趨勢：

Teflon檢測池   新型產品ClippIR+具有抗污染和抗化學腐蝕性能，并且不需要中斷生產就可以在生產流路中快速安裝。

多路分析  1臺WPA能夠監測多達8種不同的過程流，對每個流路可以分析其4種配方（最多可達32個參數）。

紅外（IR）分析   半導體紅外分析避免了在過程流中循環的溶解金屬或其它顆粒物所造成的干擾。

插入式測量  不需要引出過程支流，可通過光纖傳輸的紅外線對管道中的過程流直接進行測量。

遠程監測   WPA可以設置在離測量點（ClippIR+）遠達100米處，如果必要，還可以將其放在室外。



特點
可對濕法化學過程進行精確的、實時的在線監測；
非接觸式測量；
快速測量 （＜1分鐘，多種通訊協議）；
多過程流分析（最多可達8個流路）；
多組分分析（每個流路最多可達4種配方）；
通過光纜實現遠程監測，外形尺寸小；
的穩定性與可靠性；
不需要使用試劑；
化的售后服務與技術支持。

優勢
由于延長了清洗液使用壽命，減少了化學品消耗量，并且無離線實驗室分析所需要的停工期，因此節約了生產費用；
無化學品損耗，無污染，安裝時無需停工；
能夠實現實時過程控制；
每條過程流分析成本低；
增強了在技術要求很嚴格的場合的過程分析性能，減少了晶片清洗的次數；
靈活的安裝選擇；
無漂移，僅需少量維護；
交鑰匙系統；
迅速的服務響應。

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