光學冷熱臺支持與各類顯微鏡、光譜儀等光學 儀器設備聯用，進行變溫下的光學觀察及測試。 可在 -190~600℃ / RT~1200℃ 的溫度范圍 內進行溫控，實現樣品在氣密 / 真空環境下的 變溫光學觀察及測試。 • 溫度范圍：-190~600℃ / RT~1200℃ • 溫度穩定性：±0.1℃（＜600℃）±1℃（＞600℃） • 支持反射/透射模式 • 氣密腔室，可通保護氣體 • 腔室可升級真空腔室（10?3 mbar） • 上位機軟件控制 • 支持改動或定制 光學冷熱臺（真空）

 光學冷熱臺（氣密） 型號 CH600-190 H1200 溫控模塊 冷熱方式 液氮致冷，電阻加熱 電阻加熱 溫控范圍 -190～600℃ * RT～1200℃ * 溫度穩定性 ±0.1℃（＜600℃），±1℃（＞600℃）* 溫度分辨率 0.1℃ 升降溫速率 0~50℃/min（可定點 / 程序段控溫） 溫控方式 PID 溫度傳感器 PT100 熱電偶 光學特性 光路 反射光路 *可升級為透射光路 視窗材質 石英玻璃 * 視窗尺寸 Φ25mm * 物鏡工作距離 6mm * 透光孔 默認無透光孔 *可升級透光孔 視窗除霜 負溫下吹氣除霜 / 結構特性 樣品臺尺寸 23×23mm * 樣品臺材質 銀質 * 陶瓷 * 外形尺寸 100×100×25mm * 樣品腔高度 4mm * 腔室 氣密 *可升級真空 外殼冷卻 循環水 基本配置 光學冷熱臺x1、溫度控制器x1、致冷控制器x1（低溫配置）、液氮 罐x1（低溫配置）、循環水系統x1（高溫配置）、溫控軟件x1、連 接管路若干 選配 電腦主機/安裝支架/真空系統/循環水系統/定制溫控軟件 備注 以上均為默認參數 * 為可定制項 其他可選型號 按需求進行配置