利特斯光譜儀CCD全譜直讀光譜分析儀

SZ-WL15A 快速和可靠金屬分析  體積小巧，且具有超高的性價比。

我們的光譜儀旨在完成快速而可靠的樣品檢測。新一代leetes先進的光譜分析技術，30年光譜儀研發制造經驗、技術創新和專業的售后服務，為每一臺光譜儀用戶提供可靠的材料分析方案。

WL15A 提供快速、穩定和精確的分析以實現樣品檢測要求。 它是一臺功能強大且可靠的光譜儀，光學系統采用CCD檢測器，在部分領域可以媲美經典光電倍增管式的光譜儀。

分析的材料類型 全面的分析程序可供選擇，適用于所有金屬及其合金，

包括：鑄鐵、鐵、鋼鋁、銅、鎂、鎳、鉛、錫、鈷、鈦

光學系統 :

全譜平場光學系統，波長可選范圍：130-1100nm

檢測器 :

(紫外區)采用高性能濱松（HAMAMATSU）背照式CCD檢測器

開放式激發臺，適用于分析不同幾何形狀的大樣品，采用雙氣路氬氣沖洗電極模式大大節約氬氣，熱交換設計，無需水冷，易于清理維護。

火花激發系統 :

激發誤差 是直讀光譜分析中主要誤差，對火花激發系統中光源的穩定性要求異常嚴格。WL15A采用全頻數字雙脈沖激發光源，可變頻（100-1000Hz）激發技術。

具有以下特點：

激發電路中無電阻部件，不發熱，提高熱穩定性低壓火花放電，增加系統可靠性減少維護保養，僅需清洗激發電極

1.分析準確度高，時間快

2.體積小、重量輕

3.高度集成化、高可靠性

4.數據分析穩定、快速

5.全譜檢測，通道不受限

6.操作簡單

7.分析模式

核心原理圖：

CCD的優勢 ：

windows系統下全中文操作界面，有多種語言模式一鍵激發

即可獲取數據內置自我診斷系統

自動處理結果，10-30S 完成樣品分析

預裝金屬牌號，能快速鑒定。可自由選擇分析模式、

配置分析曲線，也可根據應用需求優化參數。

1. 連接激發光源

2. 狹縫

3. 濾鏡

4. 準直鏡

5. 光柵

6. 聚焦鏡

7. 帶濾光片的檢測器

8. 背照式CCD檢測器

應用領域

冶金、鑄造、機械加工、爐前化驗、科研、商檢、汽車、石化、造船、電力、航空航天、核電、兵器  

檢測范圍

鐵基、銅基、鋁基、鎳基、鈷基、鎂基、鈦基、鋅基、鉛基、錫基、銀基 等

利特斯光譜儀CCD全譜直讀光譜分析儀

SZ-WL15A 直讀光譜儀技術方案儀器技術參數表格

SZ-WL15A 標配供貨范圍

CCD 原理及發展應用

CCD 是指電荷耦合器件，是一種用電荷量表示信號大小，用耦合方式傳輸信號的探測元件，具有自掃描、感受波譜范圍寬、畸變小、體積小、重量輕、系統噪聲低、功耗小、壽命長、可靠性高等—系列優點，并可做成集成度非常高的組合件。

電荷耦合器件(CCD)是20世紀70年代初發展起來的一種新型半導體器件。

CCD是于1969年由美國貝爾實驗室（Bell Labs）的維拉·波義耳(Willard S. Boyle）和喬治·史密斯（GeorgeE. Smith）所發明的。

當時貝爾實驗室正在發展影像電話和半導體氣泡式內存。將這兩種新技術結合起來后，波義耳和史密斯得出一種裝置，他們命名為“電荷‘氣泡’元件”（Charge "Bubble" Devices）。

這種裝置的特性就是它能沿著一片半導體的表面傳遞電荷，便嘗試用來做為記憶裝置，當時只能從暫存器用“注入”電荷的方式輸入記憶。但隨即發現光電效應能使此種元件表面產生電荷，而組成數位影像。　

到了70年代，貝爾實驗室的研究員已經能用簡單的線性裝置捕捉影像，CCD就此誕生。有幾家公司接續此一發明，著手進行進一步的研究，包括仙童半導體（Fairchild Semiconductor）、美國無線電公司（RCA）和德州儀器（Texas Instruments）。

其中快捷半導體的產品上市，于1974年發表500單元的線性裝置和100x100像素的平面裝置。

CCD圖像傳感器可直接將光學信號轉換為模擬電流信號，電流信號經過放大和模數轉換，實現圖像的獲取、存儲、傳輸、處理和復現。

CCD 優勢及特點：

1.體積小重量輕；

2.功耗小，工作電壓低，抗沖擊與震動，性能穩定，壽命長；

3.靈敏度高，噪聲低，動態范圍大；

4.響應速度快，有自掃描功能，圖像畸變小，無殘像；

5.應用超大規模集成電路工藝技術生產，像素集成度高，尺寸精確，商品化生產成本低。

因此，許多采用光學方法測量外徑的儀器，把CCD器件作為光電接收器。