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化工儀器網>產品展廳>實驗室常用設備>凈化/清洗/消毒>等離子清洗機>CRF-APO-DP1010-D 鄭州市fpc電容式觸摸屏等離子設備廠家

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CRF-APO-DP1010-D 鄭州市fpc電容式觸摸屏等離子設備廠家

參考價 10000
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協議為準
  • 公司名稱 深圳市誠峰智造有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號 CRF-APO-DP1010-D
  • 產地 寶安區沙井街道黃埔孖寶工業區
  • 廠商性質 生產廠家
  • 更新時間 2020/12/22 14:25:31
  • 訪問次數 189

聯系我們時請說明是化工儀器網上看到的信息,謝謝!


公司產品銷售電話(real):13632675935(wx同號)

1998年,誠豐集團公司正式成立,總部設立于中國香港,誠峰智造隸屬于誠豐集團。
誠峰智造是一家致力于提供電子行業的制造設備及工藝流程解決方案的企業
中國香港、中國臺灣、深圳、蘇州、天津、成都設立六大銷售及客戶中心,銷售及客戶網絡遍布全中國,擁有一批國內外銷售及客服團隊。
源于美國&德國30年plasma生產制造及研發技術,公司全資擁有CRF品牌之等離子設備的研發,生產,制造技術,設備范圍涵蓋半導體,光伏光電,太陽能,PCB&FPCB等行業。

深圳市誠峰智造有限公司是一家集研發;制造;銷售為一體的企業。公司設立等離子事業部;表面處理事業部;五金沖壓部;鈑金部;精密五金模具部;涂裝部。產品廣泛應用于通信;汽車;家電;紡織;航天航空;生物工程;精密制造等行業。公司秉承誠信;拼搏;創新的精神理念,立足中國,面向。

深圳市誠峰智造有限公司廠址位于深圳沙井孖寶工業區。公司擁有一批等離子研發人員,并特設等離子實驗室,全面配合客戶完善每次試驗。

*以來,公司與中科院;中國等離子技術研究所及國內重點院校進行合作,堅持自主創新與國外新技術相結合,全力打造CRF PLASMA 為等離子技術。多年來,我們團隊堅持以品質為立足之本,誠信為經營之道,以創新為發展之源,以服務為價值之巔。在技術上精益求精,堅持綜合資源,不斷研發新技術為導向。目前已同國內外眾多行業建立了*穩定的合作關系。以滿足客戶不同需求為原則,*以來深受眾多客戶信賴及支持。

 

常壓/大氣等離子清洗機,真空等離子清洗機,寬幅/線性等離子清洗機,低溫等離子處理機

產地類別 國產 應用領域 環保,電子/電池,包裝/造紙/印刷,航空航天,汽車及零部件

鄭州市fpc電容式觸摸屏等離子設備廠家:誠峰智造

 噴射型AP等離子處理系統CRF-APO-DP1010-D

名稱(Name) 噴射型AP等離子處理系統

型號(Model) CRF-APO-DP1010-D

電源(Power supply) 220V/AC,50/60Hz

功率(Power) 1000W/25KHz

處理高度(Processing height) 5-15mm

處理寬幅(Processing width) 1-6mm(Option)

內部控制模式(Internal control mode) 數字控制

外部控制模式(External control mode) RS485/RS232數字通訊口、

模擬量控制口 工作氣體(Gas)

Compressed Air (0.4mpa)

產品特點:可選配多種類型噴嘴,使用于不同場合,滿足各種不同產品和處理環境;

具有RS485/232數字通訊口和模擬量控制口,滿足客戶多元化需求。

設備尺寸小巧,方便攜帶和移動,節省客戶使用空間;

可In-Line式安裝于客戶設備產線中,減少客戶投入成本;

使用壽命長,保養維修成本低,便于客戶成本控制;

應用范圍:主要應用于電子行業的手機殼印刷、涂覆、點膠等前處理,手機屏幕的表面處理;工業的航空航天電連接器表面清洗;通用行業的絲網印刷、轉移印刷前處理等。

鄭州市fpc電容式觸摸屏等離子設備廠家

 隨著半導體技術的發展,對技術的要求越來越高,特別是半導體圓片的表面質量要求越來越嚴格,主要原因是圓片表面的粒子和金屬雜質污染嚴重影響設備的質量和成品率,在現在的集成電路生產中,圓片表面污染問題,還有50%以上的材料損失。
在半導體生產過程中,幾乎每個過程都需要清洗,圓片清洗質量對設備性能有嚴重影響。正因為圓片清洗是半導體制造技術中重要、頻繁的步驟,其技術質量直接影響設備的成品率、性能和可靠性,國內外各大公司、研究機構等對清洗技術的研究不斷進行。等離子清洗作為一種*的干式清洗技術,具有綠色環保等特點,隨著微電子行業的快速發展,等離子清洗機在半導體行業的應用也越來越多。
半導體污染雜質及分類。
半導體制造需要一些有機物和無機物參與完成。此外,由于工藝總是由人們參與凈化室,半導體圓片不可避免地會被各種雜質污染。根據污染物的來源、性質等,大致可分為粒子、有機物、金屬離子和氧化物4種。
顆粒。
粒子主要是聚合物、光刻膠、蝕刻雜質等。這種污染物通常主要依靠范德瓦爾斯的吸引力吸附在圓片表面,影響設備雕刻工序幾何圖形的形成和電學參數。這種污染物的去除方法主要用物理或化學方法切割粒子,逐漸減少與圓表面的接觸面積,終去除。
有機物。
有機物雜質的來源比較廣泛,如人的皮膚油脂、細菌、機械油、真空油、光刻膠、清洗溶劑等。這種污染物通常在圓形表面形成有機物薄膜,阻止清洗液到達圓形表面,圓形表面清洗不*,清洗后金屬雜質等污染物仍*保留在圓形表面。這種污染物的清除通常在清洗過程的進行,主要用硫酸和過氧化氫水等方法進行。
金屬。
半導體技術中常見的金屬雜質有鐵、銅、鋁、鉻、鎢、鈦、鈉、鉀、鋰等,這些雜質的來源主要有各種器皿、配管、化學試劑、半導體圓片加工中,在形成金屬連接的同時,也產生了各種金屬污染。這種雜質的去除通常采用化學方法,通過各種試劑和化學藥品制成的清洗液和金屬離子反應,形成金屬離子的結合物,脫離圓片表面。
氧化物。
半導體圓片在含氧和水的環境下表面形成自然氧化層。該氧化膜不僅妨礙了半導體制造的許多步驟,還包括金屬雜質,在一定條件下轉移到圓片中形成電氣缺陷。
等離子清洗機在半導體晶圓清洗技術中的應用等離子清洗技術簡單,操作方便,無廢棄物處理和環境污染等問題。但是,它不能去除碳和其他非揮發性金屬或金屬氧化物。等離子體清洗常用于光刻膠的去除技術,在等離子體反應系統中加入少量氧氣,在強電場的作用下,使氧氣產生等離子體,使光刻膠迅速氧化成揮發性氣體狀態物質。該清洗技術具有去膠技術操作方便、效率高、表面清潔、無損傷、有利于確保產品質量等優點,不使用酸、堿、有機溶劑等,越來越受到重視。

 等離子設備廠家



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