世偉洛克ALD原子沉積隔膜閥

世偉洛克是半導體芯片制造應用的行業(yè)技術壁壘和解決方案提供商，同時也是 ALD 閥門技術的*。我們的 ALD 超高純 (UHP) 閥具有以下特點：
高速啟動下的超高循環(huán)壽命
Cv 范圍從 0.27 1.7
使用熱動元件時，全浸沒溫度高達 392°F (200°C)
適合于采用標準 316L VIM-VAR 不銹鋼閥體的 UHP 應用
模塊化表面安裝、卡套管對焊和 VCR 端接
電子或光學執(zhí)行機構位置傳感選購件

世偉洛克ALD原子沉積隔膜閥

 ALD 隔膜閥具有超長的使用壽命、高速的啟動和高達 0.62 的流量系數，與熱執(zhí)行機構、位置傳感器和電磁閥配合使用，可在原子層沉積應用場合實現佳性能。
規(guī)格
工作壓力 真空 145 psig (10.0 bar) 
爆裂壓力 3200 psig (220 bar) 
執(zhí)行壓力 50 90 psig（3.5 6.2 bar） 
溫度 32° 392°F（0° 200°C） 
流量系數(Cv) 0.27 或 0.62 
閥體材料 316L VIM-VAR 不銹鋼 
隔膜材料 鈷基高溫合金 
端接 
類型（尺寸） 內螺紋 VCR 面密封接頭（1/4 in. 1/2 in.）
外螺紋 VCR 面密封接頭（1/4 in. 1/2 in.）
模塊化表面安裝高流量 C 型密封（1.125 in. 1.5 in.