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VTC-200 真空旋轉涂膜機

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產地類別 國產 應用領域 化工

真空旋轉涂膜機

1、引言

主要應用于大專院校、科研院所的實驗室中的薄膜形成。本機利用高速旋轉使粘滯系數較大的膠體、溶液等材料均勻地涂覆在樣件表面

2、主要技術指標

電源:AC220V 50Hz

功率:200W

旋轉盤:?200mm

轉速:500rpm-6000rpm

時間:1s-60s

真空泵流速:>60L/min

尺寸:500mm×400mm×400mm

重量:30kg

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一、設備定義與工作原理

  1. 基本定義
    真空旋轉涂膜機是一種在真空或惰性氣體環境中,通過旋轉基材實現均勻涂層的設備。其核心功能是解決常規涂膜無法處理的材料氧化、揮發或均勻性問題

  2. 工作原理

    • 真空吸附固定:樣品通過真空吸盤固定在旋轉平臺上,避免偏心震動

    • 分段程序控制:設備支持多段轉速調節(通常6-16段程序),每段可獨立設置轉速(500-20,000rpm)、加速率(100-6,000rpm/s)及時間(0-999s),實現從低速注膠到高速勻膠的過渡

    • 濺射涂覆:在真空環境下,靶材材料被濺射到旋轉基材表面,形成均勻薄膜


二、核心結構與技術特點

  1. 關鍵組件
    組件 | 功能說明 |
    |------------------|----------------------------------------------------------------------------|
    | 真空腔體 | 聚丙烯或聚四氟乙烯材質,耐強酸/強堿腐蝕(如VTC-100PA型號)
    | 直流無刷電機 | 提供無級調速,噪音低、啟停平穩,確保涂層厚度一致性
    | 無油真空泵 | 避免油污污染,抽氣流量≥60L/min,真空度達-0.08MPa或1Torr
    | 多規格吸盤 | 適配φ19mm至φ203.5mm樣品,支持快速更換

  2. 智能控制與安全設計

    • 觸摸屏/液晶控制:支持中英文界面,可存儲12-16組程序(如VTC-100PAH)

    • 開蓋保護:運行中開蓋自動減速停機,防止意外

    • 惰性氣體兼容:可在Ar、N?等氣氛中操作,保護敏感材料


三、核心應用領域

  1. 半導體與光學器件

    • 晶圓光刻膠涂覆、光盤表面鍍膜(如VTC-200PV型號)

    • 防止氧化材料(如鈣鈦礦)的薄膜制備

  2. 材料研究與特殊場景

    • 強酸/堿溶液涂膜(如瀝青混合料測試)

    • 高溫涂膜需求:可選配加熱功能(RT-200℃)

  3. 科研與質量控制

    • 高校及研究所的薄膜生成實驗(如VTC-100系列)

    • 工業領域的小批量生產質量控制


四、選型要點參考

參數 | 典型范圍 | 選型建議 |
|------------------|--------------------------|-------------------------------------------|
| 轉速范圍 | 500-20,000rpm | 高精度實驗選>10,000rpm型號(如VTC-100PAH)
| 程序段數 | 6-16段 | 復雜工藝需多段控制
| 真空度 | -0.08MPa至1Torr | 高揮發材料需更高真空
| 耐腐蝕性 | 聚丙烯/聚四氟乙烯腔體 | 強酸/堿環境必選|


五、典型型號對比

型號 | 轉速(rpm) | 程序段數 | 特殊功能 | 適用場景 |
|----------------|-------------|------------|--------------------------------|--------------------------|
| VTC-100PA | 500-10,000 | 6段×12組 | 耐強酸/堿腔體 | 常規實驗室涂膜
| VTC-200PV | 500-6,000 | 6段×12組 | 真空/惰性氣體雙模式 | 易氧化材料
| VTC-100PAH | 1,500-20,000| 16段 | 7寸觸控屏,高溫選項(RT-200℃)| 科研






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