| 產地類別 | 國產 | 應用領域 | 化工 |
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真空旋轉涂膜機
1、引言
適用于半導體、晶體、光盤、制版等表面涂覆工藝。本機可用于強酸、強堿性涂覆溶液的涂膜制備。
2、主要技術指標
電機功率：350W
電源：AC220V 50Hz
速度范圍：500rpm-10000rpm
程序運行：可儲存12組程序，每組程序包含6個運行階段
增減速率設置范圍：100rpm/s-2000rpm/s
時間范圍：0-60s
吸盤：?19mm、?60mm
本機可選配加熱功能：加溫范圍RT-150℃； 加熱蓋，水槽及吸盤采用耐高溫材質聚四氟；溫度單獨控制，與主機程序控制無關聯；
尺寸：450mm×280mm×340mm
重量：20kg
主要特點包括：
真空吸附方式固定樣件，操作簡便
使用定位工具可將樣件很容易地放在中心位置，以減少偏心而造成的震動或飛片
根據樣件規格可以配用不同的吸盤，且更換方便簡單
設有12組程序，每組包含6個運行階段
電機啟動快速穩定，可以保證涂層厚度的一致性和均勻性
真空度最大可以達到-0.08MPa
本機可選配加熱功能：加溫范圍RT-150℃
技術參數如下
電機功率：350W。
速度范圍：500rpm-10000rpm。
程序運行：可儲存12組程序，每組程序包含6個運行階段。
增減速率設置范圍：100rpm/s-2000rpm/s。
時間范圍：0-60s。
吸盤：?19mm、?60mm。
真空旋轉涂膜機
一、核心原理
通過在真空或可控氣氛環境中高速旋轉基材，利用離心力將涂覆溶液均勻鋪展成薄膜。核心流程包括：
樣品固定：基材通過真空吸盤吸附（真空度達-0.08MPa），或卡盤夾持/粘接固定（真空環境下適用）
涂膜階段：
低速注膠階段：轉速500-2000rpm，確保溶液覆蓋基材表面
高速勻膠階段：轉速提升至1000-20000rpm（不同機型上限不同），離心力使溶液形成均勻薄膜
環境控制：可選真空（腔體真空度達1Torr）或惰性氣體（如Ar、N?）環境，防止材料氧化
二、技術特點與關鍵參數
程序控制：
支持多段程序（如12組程序×6階段或16段），每段獨立設置轉速（100-20000rpm）、加減速率（100-6000rpm/s）及時間（1-600s）
核心組件：
電機：直流無刷電機，低振動、高穩定性（轉速偏差±1%）
腔體材質：聚丙烯（耐強酸/堿）或聚四氟乙烯（耐高溫至200℃）
真空系統：無油真空泵（抽速≥70L/min），避免油污染
安全防護：
開蓋急停功能，運行中開蓋自動減速停機
真空檢測與定位工具，防止樣品偏心飛脫
三、典型應用場景
半導體與電子：晶圓光刻膠涂覆、集成電路封裝
光學器件
材料科研：
強腐蝕性溶液（如酸性蝕刻液）的薄膜制備
易氧化材料（如鈣鈦礦）在惰性氣體或真空環境下的涂覆
工業檢測：瀝青混合料壓實度測試（馬歇爾試驗）
四、選型關鍵因素
樣品兼容性：
吸盤尺寸（常見Φ19mm/Φ60mm/Φ153mm），支持定制微型或大尺寸吸盤。
環境需求：
真空型（如VTC-200PV）適用易氧化材料；非真空型（如VTC-100PA）適合常規溶液
特殊功能：
加熱型：VTC-100PA-II支持室溫至200℃控溫（精度±2℃），用于需預熱涂覆的材料
高轉速：VTC-100PAH可達20000rpm，滿足納米級薄膜均勻性要求
維護成本：
聚丙烯腔體耐腐蝕但需定期清潔；無油真空泵維護簡單
五、主流型號對比（沈陽科晶為例）
| 型號 | 最大轉速 | 真空環境 | 加熱功能 | 適用場景 |
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| VTC-100PA | 10,000rpm | 惰性氣體 | ? | 常規酸/堿溶液
| VTC-100PAH | 20,000rpm | 惰性氣體 | ? | 高精度納米薄膜
| VTC-100PA-II| 10,000rpm | 惰性氣體 | ??（至200℃）| 高溫固化材料
| VTC-200PV | 6,000rpm | ??（1Torr） | ? | 易氧化材料（如金屬薄膜）
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