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in-line磁控濺射系統

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真空應用設備、真空獲得設備、太陽能光伏裝備、工業化產品

產地類別 國產

設備用途

in-line磁控濺射系統用于在晶體硅表面沉積金屬薄膜（Al、Ag、Ni、Cu、Ti、Pd等），并能夠實現反應濺射，磁控濺射系統可完成高、低真空下磁控濺射鍍膜工藝，磁控濺射系統具備較大尺寸和多種尺寸規格的晶體硅光伏電池薄膜的連續制備能力。

設備組成

in-line磁控濺射系統主要由進樣室、濺射室、出樣室、基片傳遞機構、抽氣及真空測量系統、氣路系統、電控系統、安裝機臺等部分組成。此外,該系統升級后，磁控濺射系統可達到5室結構(進樣室、三個獨立的濺射室、出樣室；增加射頻電源，提供制備介質膜的功能，并能實現連續鍍膜)。



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