| 產(chǎn)地類別 | 進口 | 尺寸（L*W*D） | 381 x 660 x 508 mm |
|---|---|---|---|
| 價格區(qū)間 | 30萬-50萬 | 磨盤尺寸 | 203mm |
| 磨盤個數(shù) | 1個 | 轉(zhuǎn)速 | 5-350 RPMrpm |
MultiPrep™系統(tǒng)適用于高精密（金相，SEM，TEM，AFM等）樣品的半自動準(zhǔn)備加工。主要性能包括平行拋光，精確角度拋光，定點拋光或幾種方式結(jié)合拋光；它解決了操作者之間的不*性，提供可重復(fù)的結(jié)果，而不管他們的技能如何； MultiPrep 無須手持樣品，保證只有樣品面與研磨劑接觸。
雙測微計（傾斜度和擺動度）允許相對于研磨盤進行精確的樣品傾斜度調(diào)整；精密的Z-軸指示器保證在整個研磨/拋光過程中維持預(yù)定義的幾何方向。
數(shù)字指示器可以量化材料的去除率，可以實時監(jiān)測或進行預(yù)先設(shè)定的無人操作。可變速的旋轉(zhuǎn)和振蕩，能夠大限度地提高整個研磨/拋光盤的使用和減少手工制樣。可調(diào)負荷控制，擴大了其從小樣品（易碎樣品）到大樣品的*處理能力。
常見的應(yīng)用包括并聯(lián)電路層級，橫截面，楔角拋光等
特征
MultiPrep定位頭特點：
前數(shù)字指示器顯示實時的材料去除率（樣品的行程）， 1微米分辨率 | 精確主軸設(shè)計保證樣品垂直于研磨盤，使之同時旋轉(zhuǎn) |
雙軸測微計控制樣品角坐標(biāo)設(shè)置（斜度和擺度），+10°/-2.5°幅度， 0.02° 增量。 | 后置的數(shù)字指示器顯示垂直位置（靜態(tài)），具有歸零功能，1微米分辨率 |
6倍速樣品自動擺動 | 齒輪傳動主軸應(yīng)用于要求較高的轉(zhuǎn)動力矩，如較大或封裝的樣品 |
凸輪鎖緊鉗無需其他輔助工具，方便用戶重新設(shè)置工作夾具 | 8倍速樣品自動旋轉(zhuǎn) |
樣品調(diào)整范圍：0-600克（100克增量） | 美國ALLIED設(shè)計制造 |
研磨/拋光機特點：
研磨盤速度范圍：5-350 RPM（5轉(zhuǎn)速增量） | 數(shù)字計時器和轉(zhuǎn)速表 |
7“LCD觸摸屏，帶鍵盤輸入控制所有功能 | 順時針/逆時針研磨盤旋轉(zhuǎn) |
可選的AD-5 ™自動操作流體分配器 | 調(diào)節(jié)閥電子控制冷卻液 |
0.5 HP（375 W），高扭矩馬達 | 穩(wěn)定的RIM，鋁和不銹鋼結(jié)構(gòu) |
腐蝕/耐沖擊蓋 | 一年保修 |
符合歐盟CE標(biāo)準(zhǔn) | 由美國Allied設(shè)計制造 |
| 項目＃ | 描述 |
| 15-2200 | MultiPrep™精密拋光系統(tǒng)，用于8”研磨盤，100-240 V 50/60 Hz 1相 |
| 包括：飛濺環(huán)和壓板蓋，刻度盤指示器校準(zhǔn)套件，夾具/附件存儲盒 | |
| Dims: 15" W x 26" D x 20" H (381 x 660 x 508 mm) | |
| Weight: 95 lb. (43 kg) | |
| 15-2200-TEM | 帶O型環(huán)驅(qū)動的MultiPrep™系統(tǒng)，用于8”研磨盤，100-240 V 50/60 Hz 1相 - 專為透射電子顯微鏡而設(shè)計樣品制備精致材料研磨拋光 |
| 包括：飛濺環(huán)和壓板蓋，刻度指示器校準(zhǔn)套件，夾具/附件存儲盒 | |
| Dims: 22" W x 26" D x 21" H (560 x 660 x 535 mm) | |
| Weight: 125 lb. (57 kg) |
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