光刻機，鍍膜機，磁控濺射鍍膜儀，電子束蒸發鍍膜儀，開爾文探針系統(功函數測量)，氣溶膠設備，氣溶膠粒徑譜儀，等離子增強氣相沉積系統(PECVD)，原子層沉積系統(ALD)，快速退火爐，氣溶膠發生器，稀釋器，濾料測試系統
電子束蒸發鍍膜系統
電子束蒸發鍍膜系統
（E-Beam Evaporator System）
儀器介紹:
美國專業的制造商，擁有20多年豐富的經驗在：電子束蒸發設備、磁控濺射設備、熱蒸發設備等。有以下功能模式：
electron beam evaporation， 電子束蒸發；
resistive evaporation，熱阻蒸發；
ion beam assisted deposition (IBAD)， 離子束輔助蒸發鍍膜；
effusion cell，瀉流源。
技術參數：
Vacuum Chamber: 304不銹鋼圓柱形腔體，標準直徑有18英寸和24英寸 – scaled to match the specific application；
Pumping: 分子泵或冷凝泵；
Load Lock: 手動傳片或自動傳片,適合各種形狀尺寸的小片到200mm大的圓片，高真空背景傳遞；
Process Control: PC / PLC自動控制界面，菜單控制，數據獲取和遠程控制 ；
In-Situ Monitoring & Control: QCM膜厚監控，光學膜厚監控；
RGA殘余氣體分析；
Substrate Fixture: 單片，多片，行星式襯底夾具；
Substrate Holders: 可加熱，冷卻，偏壓，旋轉；
Ion Source: 襯底預清洗，納米表面改性。
Deposition Techniques:
Magnetron Sputtering RF, DC, or Pulsed-DC，具有射頻濺射，直流濺射，脈沖直流濺射；
Electron Beam Evaporation，電子束蒸發；
Thermal Evaporation，熱蒸發；
Organic Evaporation for OLED/ PLED and Organic Electronics，有機蒸發（用于OLED/ PLED和有機電子）；
Glancing Angle Depostion (GLAD),傾斜角沉積
Cathodic Arc Plasma Deposition,陰極等離子體輔助沉積。
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