今日焦點
查看更多01展會介紹
“2024 國際二維材料會議”作為一次國際化、高水平的研討會,旨在匯聚二維材料領(lǐng)域的科學(xué)家、青年科研人員、企業(yè)家,共享、學(xué)習(xí)并交流二維材料領(lǐng)域的前沿研究成果。
會議將圍繞 2D 材料的生長與合成、二維材料的物理特性和器件、能源存儲和催化、宏觀結(jié)構(gòu)和復(fù)合材料等當前二維材料研究領(lǐng)域核心主題展開,通過學(xué)術(shù)報告、產(chǎn)學(xué)研圓桌會、產(chǎn)業(yè)成果展等形式,搭建學(xué)術(shù)界與產(chǎn)業(yè)界的交流平臺,互學(xué)互鑒、共同探索,促進材料領(lǐng)域創(chuàng)新成果孵化。
02展會現(xiàn)場
2024年11月9日至11日,備受矚目的2024國際二維材料會議在溫州盛大召開,吸引了來自世界各地的材料科學(xué)專家、學(xué)者和企業(yè)代表。本次會議不僅為行業(yè)內(nèi)的專業(yè)人士提供了一個交流和學(xué)習(xí)的平臺,更是展示科研成果和前沿技術(shù)的盛會。
托托科技也受邀參加了此次盛會。在為期三天的展覽中,托托科技展出了其自主研發(fā)的磁光克爾顯微測試系統(tǒng)和無掩膜版紫外光刻機,這兩項技術(shù)在二維材料研究領(lǐng)域具有重要的應(yīng)用價值。
磁光克爾顯微測試系統(tǒng)是托托科技的明星產(chǎn)品之一,它能夠提供高分辨率的磁性信息,對于研究二維材料的磁性特性具有重要意義。該系統(tǒng)以其性能和穩(wěn)定性,受到了與會專家的高度評價。
另一款展出的設(shè)備——無掩膜版紫外光刻機,是托托科技在光刻技術(shù)領(lǐng)域的突破性產(chǎn)品。該設(shè)備摒棄了傳統(tǒng)光刻技術(shù)中對掩膜版的依賴,大幅降低了光刻成本,同時提高了光刻效率和精度。
托托科技的展臺成為了本次會議的焦點之一,眾多參會者紛紛駐足了解和交流。托托科技的技術(shù)人員耐心地向參觀者介紹產(chǎn)品的技術(shù)特點和應(yīng)用場景,積極回應(yīng)與會者的提問,現(xiàn)場氣氛熱烈。
通過此次會議,托托科技不僅展示了其在二維材料領(lǐng)域的技術(shù)實力,也進一步加強了與行業(yè)內(nèi)外的交流合作。未來,托托科技將繼續(xù)致力于科技創(chuàng)新,為推動二維材料及相關(guān)領(lǐng)域的研究和發(fā)展做出更大的貢獻。
03展品介紹
磁光克爾顯微鏡綜合測試設(shè)備
磁光克爾顯微鏡綜合測試設(shè)備,顯微磁疇空間分辨率優(yōu)于0.5微米,磁光克爾角分辨率優(yōu)于0.1毫度,支持極向克爾、縱向克爾、橫向克爾三種磁光克爾效應(yīng)測量方式。在追蹤平面內(nèi)數(shù)百萬點的磁疇動態(tài)信息的同時,可搭配探針臺實現(xiàn)電學(xué)、磁學(xué)、光學(xué)同步觀測。廣泛應(yīng)用于磁學(xué)和自旋電子學(xué)領(lǐng)域中磁光克爾效應(yīng),磁滯回線,磁疇翻轉(zhuǎn)或擴展等觀測。
案例分享
梯度自旋流實現(xiàn)無場翻轉(zhuǎn)
(a) 在外磁場HZ=0 Oe,HX=0 Oe下,脈沖電流實現(xiàn)磁疇無場翻轉(zhuǎn)及對應(yīng)的翻轉(zhuǎn)回線。1,2,3,…6表示負向的脈沖電流不斷增加直至磁疇翻轉(zhuǎn)圖片;
(b)a,b,c…f表示正向電流不斷增加直至磁疇翻轉(zhuǎn)。其中頂層Pt厚度為2.5 nm。
DMI有效場以及磁疇速度測試
(a)DMI有效場(HDMI) 測量裝置。
(b)垂直各向異性樣品在面內(nèi)磁場作用下,發(fā)生各向異性翻轉(zhuǎn)。
(c)不同覆蓋層的異質(zhì)結(jié)樣品,其磁疇運動速度隨面內(nèi)輔助磁場的變化
(d)DMI有效場導(dǎo)致磁疇翻轉(zhuǎn)過程中出現(xiàn)傾斜角且DMI越大傾斜角越大。
無掩膜版紫外光刻機
托托科技無掩膜版紫外光刻機具有 高精度,高穩(wěn)定性 的特點。光刻圖案設(shè)計靈活,能夠?qū)崿F(xiàn)所見即所得的精準套刻以及灰度光刻。
案例分享
平面光刻
TUOTUO LOGO
IC
MEMS器件(a)
500 nm掩膜版
套刻精度測量標記圖
MEMS器件(b)
灰度光刻
托托科技無掩膜版紫外光刻機支持256階灰度光刻
菲涅爾透鏡
TOF擴散器
波前調(diào)控器件
04關(guān)于托托
托托科技是一家是專注于光學(xué)顯微加工及檢測的光學(xué)設(shè)備制造廠商。目前公司擁有五個核心產(chǎn)品線:
(A)無掩膜版光刻設(shè)備
(B)磁學(xué)產(chǎn)品
(C)多模態(tài)光電顯微鏡
(D)超高精度3D光刻產(chǎn)品
(E)3D顯微鏡
已經(jīng)形成了集設(shè)計、研發(fā)、制造、銷售及客戶咨詢服務(wù)為一體的高科技企業(yè),致力于給客戶提供技術(shù)支持,以技術(shù)和細致設(shè)計造就品質(zhì),以耐心服務(wù)和企業(yè)擔當贏得良好口碑。
公司旗下產(chǎn)品的品牌名稱為TuoTuo,擁有中國及新加坡兩個研發(fā)中心,其中托托科技(蘇州)是中國區(qū)業(yè)務(wù)的運營主體,TuoTuo Technology (Singapore) Pte.Ltd. 是國際業(yè)務(wù)的運營主體。
免責(zé)聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來源:化工儀器網(wǎng)”的所有作品,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品,未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其他方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的,應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用,并注明“來源:化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者,本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責(zé)任。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來源(非化工儀器網(wǎng))的作品,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點和對其真實性負責(zé),不承擔此類作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任。其他媒體、網(wǎng)站或個人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時,必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源,并自負版權(quán)等法律責(zé)任。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問題,請在作品發(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。