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魯汶儀器致力于為集成電路制造產業提供先進的裝備和工藝解決方案。針對邏輯、存儲、功率器件、光學、微顯示等領域的關鍵工藝道次,魯汶儀器研發了業界的離子束塑形設備(IBS)、離子束沉積設備(IBD)等,為客戶推動技術創新、提升產能、優化工藝提供穩定可靠的設備與完善的技術支持。 魯汶儀器也提供電感耦合等離子體刻蝕設備(ICP)、薄膜沉積設備(CVD),以及氣相分解金屬沾污收集設備(VPD)等晶圓工藝制造設備與檢測設備。
氣相分解金屬沾污收集(VPD)設備
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