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進(jìn)口電化學(xué)工作站需創(chuàng)新發(fā)展
進(jìn)口電化學(xué)工作站需創(chuàng)新發(fā)展
進(jìn)口電化學(xué)工作站將一個(gè)恒電位儀、信號(hào)發(fā)生器和相應(yīng)的控制軟件進(jìn)行有機(jī)的結(jié)合，可以在電腦的控制下完成開(kāi)路電位監(jiān)測(cè)、恒電位（流）極化、動(dòng)電位（流）掃描、循環(huán)伏安、恒電位（流）方波、恒電位（流）階躍以及電化學(xué)噪聲監(jiān)測(cè)等多項(xiàng)測(cè)試功能。進(jìn)口電化學(xué)工作站測(cè)量過(guò)程中可以根據(jù)數(shù)據(jù)實(shí)時(shí)繪圖，能對(duì)電位--電流曲線進(jìn)行各種平滑和數(shù)字濾波處理，并可直接將圖形以矢量方式輸出。進(jìn)口電化學(xué)工作站可直接用于微電極上的穩(wěn)態(tài)電流測(cè)量，應(yīng)用于電分析基礎(chǔ)教學(xué)科研、電池材料研究、生物化學(xué)（傳感器）、有機(jī)電合成基礎(chǔ)及冶金、制藥、環(huán)境分析等領(lǐng)域的研究測(cè)試，基本可滿足所有電化學(xué)教學(xué)和科研領(lǐng)域的應(yīng)用。
進(jìn)口電化學(xué)工作站的介紹主要以的進(jìn)口電化學(xué)工作站為例，進(jìn)口電化學(xué)工作站分析介紹如下：
進(jìn)口電化學(xué)工作站由高速M(fèi)CU、高精度FET集成電路組成，內(nèi)置DDS數(shù)字信號(hào)合成器、高功率恒電位/恒電流儀、雙通道相關(guān)分析器和雙通道高速16bit /高精度24bit AD轉(zhuǎn)換器。能完成線性掃描循環(huán)伏安（CV）、階梯波循環(huán)伏安（SCV）、方波循環(huán)伏安（SWV）、差分脈沖伏安（DPV）和常規(guī)脈沖伏安（NPV）以及差分常規(guī)脈沖伏安（DNPV）等電分析方法；還可以完成恒電流（位）極化、動(dòng)電位（流）掃描、任意恒電流（位）方波，多恒電流（位）階躍、零電阻模式電化學(xué)噪聲（電偶電流）、電化學(xué)阻抗（EIS）等電化學(xué)測(cè)試等功能。
進(jìn)口電化學(xué)工作站包括多種型號(hào)（CS120，CS150，CS300，CS330，CS310，CS350，CS360），進(jìn)口電化學(xué)工作站可用于較大電流和較高槽壓的電化學(xué)測(cè)量和應(yīng)用，例如電池、電分析、腐蝕、電解、電鍍等。進(jìn)口電化學(xué)工作站的電流輸出范圍為±2A，槽壓為±21V。電壓控制范圍：±10V；電流控制范圍：±2.0A；電流測(cè)量下限為10pA。
CorrTest測(cè)試軟件是CS進(jìn)口電化學(xué)工作站的控制平臺(tái)，軟件基于Windows98/ 2000/ XP操作系統(tǒng)，并遵守Windows軟件設(shè)計(jì)規(guī)則，易于安裝和使用。進(jìn)口電化學(xué)工作站軟件包括文件管理、實(shí)驗(yàn)方法管理、多坐標(biāo)圖形顯示和縮放、數(shù)據(jù)/圖形的存貯/打印以及交互式幫助等。軟件具有良好的用戶界面，命令窗口所用的詞匯與通用的電化學(xué)術(shù)語(yǔ)保持一致，全中文菜單和界面，方便用戶的教學(xué)和科研工作。
進(jìn)口電化學(xué)工作站的特性以100BWBAS進(jìn)口電化學(xué)工作站為例，進(jìn)口電化學(xué)工作站具體分析如下：
1.經(jīng)典電化學(xué)分析測(cè)試儀器；
2.多達(dá)15種電化學(xué)測(cè)試技術(shù)；
3.全自動(dòng)控制參數(shù)及電極；
4.控制生長(zhǎng)滴汞電極、旋轉(zhuǎn)圓盤(pán)電極等多種電化學(xué)附件；
5.多功能雙恒電位儀，雙通道同時(shí)掃描；
6.國(guó)內(nèi)用戶zui多的進(jìn)口電化學(xué)研究及教學(xué)儀器；
7.內(nèi)置參數(shù)校正模塊；
8.全系列應(yīng)用電極，可用于固定化酶研究、電解研究、電分析研究。
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