但是低溫恒溫水槽對半導體制造裝置發熱部和激光裝置發熱部分的冷卻：
激光裝置（激光加工、熔接機的發熱部分、激光標志裝置、發生裝置、二氧化碳激光加工機...），
半導體制造裝置（單晶片洗凈轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置...）等。

恒溫水槽的特點
1.可選配冷水循環裝置，通入自來水實現體系內部快速降溫，適合于高溫下放熱反應的溫度控制
2.LED雙窗口分別數顯溫度測量值及溫度設定值，數顯分辨率0.01℃或0.1℃，觸摸按鍵操作方便。
3.水油兩用：室溫～100℃、室溫～200℃。
4.高精度恒溫油槽適合于電子檢測,化工反應，高溫蒸餾，半導體工業等。
5.微機智能控制系統，升溫迅速，溫度穩定，操作簡便
6.可內外循環，內循環保證溫度均勻恒定，循環泵可把槽內被加熱液體外引去加熱或恒溫機外實驗器。