藥品殘留溶劑是指在原料藥或者輔料的生產過程中，以及在制劑制備過程中使用或生成的，無法在工藝過程中去除的揮發性有機物。根據殘留溶劑對人體健康可能造成的危害程度，將其分為1級、2級和3級殘留溶劑進行管理。雖然美國藥典（USP）通則〈467〉中規定使用頂空GCFID 法（HS-GC法）對上述溶劑進行測定，但本應用報告根據ProcedureA 探討了頂空-GC/MS 法（HS-GC/MS）。理由是如果使用HS-GC法，因為分離度不高，需要分三次測定1級、2*和2B級殘留溶劑，而采用HS-GC/MS 法不僅可以一次性完成測定，還能夠獲得未知峰的定性信息。使用采用島津公司HS-20 結合氣相色譜質譜聯用儀（GCMS-QP2010 Ultra）進行測定，不僅不影響分離度、分析精度和準確度，還能同時測定USP 通則<467>中的上述殘留溶劑。