在微納加工領(lǐng)域，傳統(tǒng)光刻技術(shù)常受限于超凈環(huán)境與特定光刻膠材料。

天恒科儀推出一款小型通用手動對準(zhǔn)和曝光系統(tǒng)，使準(zhǔn)直機(jī)(aligner)的應(yīng)用領(lǐng)域不再局限于微電子和傳統(tǒng)光刻膠。可以直接在各種有機(jī)物上，例如：PMMA、ABS或其他有機(jī)材料上進(jìn)行光刻，成為MEMS、微流控、生物工程和生命科學(xué)等研究領(lǐng)域的理想工具。

憑借光源技術(shù)與極簡操作為實(shí)驗(yàn)室和小型生產(chǎn)環(huán)境提供一種易于使用的高精度光刻解決方案。

核心技術(shù)亮點(diǎn)

一、材料兼容性革命
搭載專有紫外光源（172nm/222nm/308）突破傳統(tǒng)光刻工藝限制。

可直接在PMMA、ABS、PDMS、纖維素酯（CA/CAB） 等有機(jī)材料表面實(shí)現(xiàn)高精度圖形化，無需預(yù)先涂覆光刻膠。

二、極簡操作流程
桌面式設(shè)計(jì)（205×230×400mm）與模塊化結(jié)構(gòu)，無需超凈環(huán)境，開機(jī)即用。系統(tǒng)內(nèi)置精密機(jī)械結(jié)構(gòu)，長期免維護(hù)校準(zhǔn)，顯著降低使用門檻。

三、雙模式曝光
支持軟接觸/硬接觸兩種曝光模式，適配不同材質(zhì)需求，確保圖形轉(zhuǎn)移一致性

詳細(xì)參數(shù)配置

對準(zhǔn)裝置核心部件是自動調(diào)節(jié)的z-stage，確保樣品與掩膜表面緊密對接，從而提升分辨率并減少缺陷。

采用手動調(diào)節(jié)位移臺和自調(diào)平chuck盤以及配備可調(diào)節(jié)的數(shù)碼電子顯微鏡，使操作更加簡單并加快對準(zhǔn)速度。

同時系統(tǒng)還配備壓縮空氣和真空供應(yīng)，對樣品進(jìn)行吸附固定以及實(shí)現(xiàn)實(shí)驗(yàn)樣品與掩膜版的緊密接觸，便于更加準(zhǔn)確高效的完成對準(zhǔn)操作。

典型應(yīng)用場景

應(yīng)用領(lǐng)域:

科研原型驗(yàn)證：

MEMS/生物芯片/光學(xué)元件

半導(dǎo)體行業(yè)：

微流控、生物芯片、光學(xué)器件

材料研究：

材料表面改性研究

產(chǎn)品亮點(diǎn)

高分辨率對準(zhǔn)和曝光系統(tǒng)：

? 小型、桌面式經(jīng)典設(shè)計(jì)、高精度、高穩(wěn)定性、操作方便

? 擴(kuò)展光刻膠和襯底的材料范圍，打破傳統(tǒng)光刻工藝的限制

? 一致的、高質(zhì)量的曝光結(jié)果，零培訓(xùn)、0基礎(chǔ)即可操作

?無需超凈間、任何地點(diǎn)都可以光刻；低功耗、可選電池供電

?搭建即可運(yùn)行，牢固的機(jī)械結(jié)構(gòu)和光學(xué)器件，無需額外維護(hù)和校準(zhǔn)