手機版
化工儀器網手機版
化工儀器網小程序
官方微信
公眾號：chem17
掃碼關注視頻號
三維白光干涉輪廓儀是一種基于光學干涉原理的非接觸式表面形貌測量儀器，其核心原理是通過分析白光干涉條紋的相位變化實現亞納米級縱向分辨率。當照明光束經分光鏡分為兩束后，分別投射至樣品表面與參考鏡表面，反射光在CCD相機感光面疊加形成明暗相間的干涉條紋。由于白光光譜范圍寬，干涉條紋僅在兩束光光程差接近零時呈現高對比度，通過掃描過程中實時捕捉干涉條紋的峰值位置，結合壓電陶瓷驅動的垂直位移系統，可精確計算樣品表面各點的相對高度，最終通過三維重建算法生成表面形貌數據。
在結構方面，該儀器采用模塊化設計，主要包括光學干涉模塊、精密掃描模塊與數據處理模塊。光學干涉模塊采用Mirau型或Linnik型干涉物鏡，確保參考光與測量光共路傳輸以降低環境干擾；精密掃描模塊通過壓電陶瓷實現0-150μm范圍內的納米級垂直位移，配合步進電機擴展至15mm測量范圍，滿足從納米級粗糙度到毫米級臺階高度的多尺度檢測需求；數據處理模塊集成干涉條紋分析算法與三維重建引擎，可自動提取表面粗糙度（Ra≤0.1nm）、臺階高度等參數，并支持ISO25178標準下的形貌分析。
關鍵技術突破集中于垂直掃描精度與抗干擾能力。例如，采用閉環控制的壓電陶瓷驅動技術，結合高線性度位移傳感器，將Z向重復定位精度提升至0.01nm（RMS）；針對低反射率表面，通過優化干涉物鏡數值孔徑與光源光譜分布，使反射率兼容范圍擴展至1%-100%；在復雜表面測量中，引入傾斜/俯仰光學頭補償技術，有效降低表面坡度對干涉信號的影響，提升臺階測試重復性至<0.1%（@1σ）。這些技術進展使其在半導體晶圓減薄、光學透鏡拋光、MEMS器件表征等領域成為關鍵檢測設備。
免責聲明
- 凡本網注明“來源：化工儀器網”的所有作品，均為浙江興旺寶明通網絡有限公司-化工儀器網合法擁有版權或有權使用的作品，未經本網授權不得轉載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經本網授權使用作品的，應在授權范圍內使用，并注明“來源：化工儀器網”。違反上述聲明者，本網將追究其相關法律責任。
- 本網轉載并注明自其他來源（非化工儀器網）的作品，目的在于傳遞更多信息，并不代表本網贊同其觀點和對其真實性負責，不承擔此類作品侵權行為的直接責任及連帶責任。其他媒體、網站或個人從本網轉載時，必須保留本網注明的作品第一來源，并自負版權等法律責任。
- 如涉及作品內容、版權等問題，請在作品發表之日起一周內與本網聯系，否則視為放棄相關權利。
采購中心