隨著微電子、集成電路等領域的迅猛發展，光刻技術也在不斷革新。托托科技推出的無掩模光刻機，以其革命性的技術，為我國微電子制造領域帶來了靈活性和效率。

無掩模光刻機，突破傳統束縛

與傳統有掩模光刻技術相比，托托科技的無掩模光刻機擺脫了實體掩模的限制，采用DMD（數字微鏡裝置）技術，實現了高精度、高效率的圖案化加工。這種技術不僅省去了制版的時間和成本，還為科研和生產帶來了極大的便利。

多型號選擇，滿足不同需求

托托科技針對不同應用場景，推出了科研版、教育版、高速版等多款無掩模光刻機。科研版專注于高精度、高靈活性，適用于科學研究；教育版體積小巧，適合實驗課程；高速版則具備更快的加工速度，適用于小批量生產制造。這些產品滿足了不同用戶的需求，為我國微電子產業提供了有力支持。

技術創新，優勢顯著

托托科技的無掩模光刻機具有以下優勢：無需掩模版的靈活性、高加工精度（可達400 nm）、高速度（可達1200 mm2/min）以及大加工幅面（可達2 m2）。此外，4096階的灰度光刻能力，使得光刻機能夠構建出高度復雜且細膩的微觀結構或圖案。

廣泛應用，推動產業發展

無掩模光刻機在二維材料、微流控、MEMS、微透鏡、光學衍射器件、浮雕結構、超表面、量子光學等領域具有廣泛應用。這些應用不僅體現了托托科技產品的多樣性，也推動了相關產業的發展。

托托科技，致力于技術創新

作為一家技術驅動型企業，托托科技始終專注于精密光學儀器的研發制造。公司以技術和細致設計造就品質，以耐心服務和企業擔當贏得良好口碑。無掩模光刻機作為公司的核心產品之一，將繼續光刻技術革新，為我國微電子產業貢獻力量。

托托科技的無掩模光刻機憑借其技術和性能，已成為微電子、集成電路等領域的重要工具。在未來的發展中，托托科技將繼續創新，為我國光刻技術的發展貢獻力量。

托托科技的無掩模光刻機產品亮點介紹：

 高速版無掩模光刻機                                  教育版無掩模光刻機

               科研版無掩模光刻機                                    生命科學領域無掩模光刻機