上海交通大學的鄔崇朝及其團隊在ADVANCED SCIENCE上發表了一篇論文，提出并實驗證明了一種偏振無關的全介質多焦點稀疏孔徑（MSA）超透鏡。金屬超透鏡在可見光譜中的透射效率由于電磁波與金屬中自由電子之間的相互作用而顯著降低，嚴重限制了其實際應用。而介質納米結構，如硅（Si）、二氧化鈦（TiO2）、氮化鎵（GaN）和 IP-Dip 光刻膠等材料，已顯示出克服金屬納米結構弱點的潛力。考慮到偏振相關超透鏡對光源和透射效率的限制，設計用于產生多個焦點的偏振無關納米結構具有重要意義。

這項研究中提出的 MSA 超透鏡由多個子扇區組成，每個子扇區由周期性排列的方形納米孔單元陣列組成，該陣列由 IP-Dip 光刻膠制成，適用于在 650 nm 波長處進行聚焦和成像。**這些納米孔陣列是使用 Nanoscribe Photonic Professional GT2 系統結合 IP-Dip 光刻膠和 63x 物鏡浸入模式下通過雙光子聚合制造的。**每對對角扇區形成一個獨立的稀疏孔徑子超透鏡，能夠將光聚焦在對應的焦點，同時使光在其他位置發散，從而有效地盡量減少彼此之間的干擾。因此，由稀疏孔徑子超透鏡組成的 MSA 超透鏡可以有效地將光聚焦到兩個焦點：f1 = 0.5 mm 和 f2 = 1.0 mm。

通過數值模擬分析了所設計的全介質 MSA 超透鏡的聚焦性能。結果表明，從 z = 0 mm 開始，光逐漸會聚到 z = 0.5 mm，然后發散直到在 z = 1.0 mm 處重新聚焦。光斑在 z = 0.5 和 1.0 mm 處對應于其相鄰范圍內最小的半峰全寬 (FWHM)，表明聚焦特性良好。由于光源為平面波源，z = 0.5 和 1.0 mm 處的焦平面圖像可用作 MSA 超透鏡的點擴散函數 (PSF)。

此外，還對 MSA 超透鏡的成像能力進行了驗證。分辨率圖由水平條、垂直條和數字圖案組成，水平條沿 d1 方向定向，垂直條沿 d2 方向定向。使用 CMOS 相機捕獲相應圖像，成功渲染分辨率測試目標，最大分辨率為 12.4 μm，對應于第 5 組元素 3 中線對的空間距離。最初，獲得了水平條的清晰圖像，垂直條顯得模糊。當將 CMOS 相機從超透鏡移開時，圖像清晰度發生反轉：垂直條清晰可見，而水平條變得模糊。這兩個圖像分別對應于 PSF1 和 PSF2 產生的結果。

這項工作還展示了具有三個和四個焦點的 MSA 超透鏡，表明其靈活性和高度的設計自由度。更重要的是，焦距和焦點的數量都可以定制，以滿足特定的要求，從而開辟了在虛擬現實顯示、顯微成像、全息術和光譜學等各個領域的潛在應用。

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