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多弧離子鍍與磁控濺射，蒸發鍍之間的區別（轉載自光學在線）
| 是轉載的說法，有不對的地方請擔待并指正。三者的區別在于工作原理不同 蒸發鍍：通過蒸發鍍加熱使膜材蒸發。蒸發鍍有電阻加熱式、電子束加熱式、感應加熱式。 磁控濺射鍍：磁控靶是靜止電磁場，磁場為曲線形，以磁場改變電子運動方向，是展于高密度的等離子體異常輝光放電。其特點是濺射能量低，基本溫度低。 多弧離子鍍：多弧靶是電弧蒸發源，是冷陰極電弧放電型自持自離化的固體蒸發源。其特點是離子能量高，沉積速率高，膜層改密性高，單固性好。 蒸發鍍主要做玻璃和塑膠，俺不懂，毛主席老人家說得好，沒有調查就沒有發言權．在此說說磁控和多弧 磁控能對多種金屬進行濺射，膜厚和顏色比較容易控制，膜層顆粒細能滿足良好外觀要求．沉積時間較長，膜層耐磨性不如多弧． 多弧的優點就是磁控的缺陷，還有就是對有些靶材鍍出來外觀效果不理想如金，不銹鋼等 不過二者結合起來用的也大有人在． 塑膠產品CPC或ABS材料表面裝飾性鍍膜，若要單固性好些就要采用磁控濺射鍍；若要表面光亮些就有蒸發鍍 |
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