德國hellma 晶體材料 氟化鈣晶體技術(shù)參數(shù)
Hellma Materials和CVD Ceramics是高品質(zhì)晶體和陶瓷光學(xué)材料的制造商,為各行各業(yè)提供服務(wù)。其中包括微光刻、光學(xué)、激光技術(shù)和輻射檢測(cè)。憑借長期的技術(shù)專長和對(duì)客戶需求的高度關(guān)注,我們產(chǎn)品的認(rèn)可和始終如一的質(zhì)量使我們能夠成為越來越多的滿意客戶的可靠供應(yīng)商。
氟化鈣晶體
閃爍晶體
氟化晶體
CVD 硫@化鋅Cleartran®
激光晶體
CVD硒化@鋅
氟化鈣晶體
用于UV/VIS/IR應(yīng)用的光學(xué)材料
多年來,Hellma Materials CaF2 一直被用作半導(dǎo)體生產(chǎn)微光刻的光學(xué)關(guān)鍵材料。CaF2 被確立為投影和照明光學(xué)中準(zhǔn)分子激光光學(xué)器件的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)材料。CaF2 的光學(xué)特性使各種高級(jí)應(yīng)用成為可能。
應(yīng)用
由于其的光學(xué)質(zhì)量和在紫外、可見分光光度計(jì)和紅外光譜范圍內(nèi)的出色透射率,Hellma Materials CaF2 可用于多種應(yīng)用:
紅外光學(xué)器件
用于天文儀器的光學(xué)元件
天基光學(xué)器件
顯微鏡光學(xué)元件
光譜光學(xué)
紫外光學(xué)
激光窗口
準(zhǔn)分子激光光學(xué)器件
顯微光刻光學(xué)器件
優(yōu)勢(shì)
Hellma Materials 的 Lithotec® CaF2 具有的光學(xué)特性:
從深紫外到紅外的高寬帶透射率(130nm 至 8μm)
低折射率 (nd = 1.43384)
低光譜色散 (vd = 95.23)
準(zhǔn)分子激光光學(xué)器件(157nm、193nm、248nm)具有出色的激光耐久性
合格的高能粒子和輻射耐受性
直徑可達(dá) 420mm
氟化鋇VIS/IR光學(xué)材料
Hellma Materials BaF2 在高達(dá) 12μm 的可見光和紅外光譜范圍內(nèi)具有出色的透射率。
這允許在可見光和紅外雙通道系統(tǒng)中將 BaF2 用作寬帶光學(xué)材料,用于可見光和熱成像。
BaF2 的折射率低于許多其他光學(xué)材料。這減少了由菲涅耳反射引起的傳輸損耗。
應(yīng)用
Hellma Materials BaF2 是一種出色的光學(xué)材料,適用于可見光和紅外光譜范圍的寬光譜范圍。這使得在復(fù)雜的應(yīng)用中得以利用:
集成VIS通道的熱成像和夜視
用于天文儀器的光學(xué)元件
紅外激光光學(xué)器件
用于檢測(cè)高能γ輻射>5Me的閃爍體
優(yōu)勢(shì)
Hellma Materials BaF2 是一種的光學(xué)材料:
可見光透射率高,紅外范圍擴(kuò)展至12μm
低折射率 (nd = 1.47447)
低光譜色散 (vd = 81.61)
直徑可達(dá) 360 mm
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