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一、納米壓印技術是一種新型的微納加工技術。該技術通過機械轉移的手段，達到了超高的分辨率，有望在未來取代傳統光刻技術，成為微電子、材料領域的重要加工手段。
二、納米壓印技術，是通過光刻膠輔助，將模板上的微納結構轉移到待加工材料上的技術。報道的加工精度已經達到2納米，超過了傳統光刻技術達到的分辨率。這項技術最初由美國普林斯頓大學的Stephen.Y.Chou(周郁)教授在20世紀90年代中期發明。
三、作用過程：
第一步是模板的加工。一般使用電子束刻蝕等手段，在硅或其他襯底上加工出所需要的結構作為模板。由于電子的衍射極限遠小于光子，因此可以達到遠高于光刻的分辨率。
第二步是圖樣的轉移。在待加工的材料表面涂上光刻膠，然后將模板壓在其表面，采用加壓的方式使圖案轉移到光刻膠上。注意光刻膠不能被全部去除，防止模板與材料直接接觸，損壞模板。
第三步是襯底的加工。用紫外光使光刻膠固化，移開模板后，用刻蝕液將上一步未去除的光刻膠刻蝕掉，露出待加工材料表面，然后使用化學刻蝕的方法進行加工，完成后去除全部光刻膠，最終得到高精度加工的材料。
四、而模板的選擇也更加多樣化。原來的剛性模板雖然能獲得較高的加工精度，但僅能應用于平面加工。研究者們提出了使用彈性模量較高的PDMS作為模板材料，開發了軟壓印技術。這種柔性材料制成的模板能夠貼合不同形貌的表面，使得加工不再局限于平面，對顆粒、褶皺等影響加工質量的因素也有了更好的容忍度。
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