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二氧化硅分析儀(Silicon Dioxide Analyzer)是一種常用于工業(yè)生產(chǎn)中分析固體或液體樣品中二氧化硅含量的儀器。其原理是利用高溫燃燒后樣品中的二氧化硅與循環(huán)空氣中的鈉堿金屬生成草酸鹽，再被酞菁鈷吸收發(fā)射光譜分析得到。通常被廣泛應(yīng)用于玻璃、陶瓷、建材、電子、冶金、石油等多個(gè)領(lǐng)域。其有許多優(yōu)點(diǎn)，如高度自動化、分析速度快、精度高、重復(fù)性好等。由于二氧化硅是一種非常重要的工業(yè)原料，因此該儀器在工業(yè)生產(chǎn)線上具有不可替代的作用。通常由五個(gè)部分組成：樣品處理單元、加熱單元、燃燒單元、草酸鹽生成裝置和檢測單元。其主要原理如下：
樣品處理單元：將待分析的固態(tài)或液態(tài)樣品加工成適合分析的形式加入到分析系統(tǒng)中；
加熱單元：將樣品等加熱至高溫狀態(tài)，這有助于分析過程中二氧化硅的分解反應(yīng)，同時(shí)使物料揮失不需要的水分和雜質(zhì)；
燃燒單元：將加工好的樣品進(jìn)行燃燒，使較高濃度的二氧化硅被氣態(tài)化并進(jìn)入草酸鹽生成裝置；
草酸鹽生成裝置：將氣態(tài)的二氧化硅與循環(huán)空氣中的鈉堿金屬反應(yīng)生成草酸鹽，從而實(shí)現(xiàn)對二氧化硅的有效吸收；
檢測單元：通過吸收草酸鹽反應(yīng)產(chǎn)生的特定光譜發(fā)射信號，并據(jù)以計(jì)算出樣品中二氧化硅的含量。
值得注意的是，該儀器使用時(shí)需要嚴(yán)格控制儀器中的氧氣濃度和反應(yīng)溫度等參數(shù)，以確保測試數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性。同時(shí)，為避免干擾因素的影響，還需在運(yùn)行過程中經(jīng)常清洗分析系統(tǒng)和更換化學(xué)試劑等。
二氧化硅分析儀的操作使用可以按照以下步驟進(jìn)行：
1.根據(jù)要測量的樣品類型和測試要求，選取合適的樣品，并按照說明書操作將其制樣并儲存。
2.接通電源后，在主機(jī)上打開電源開關(guān)，待屏幕亮起并進(jìn)入測試狀態(tài)時(shí)即可進(jìn)行下一步操作。
3.將制好的樣品放入試樣池內(nèi)，并根據(jù)說明書設(shè)置測試參數(shù)，如溫度范圍、時(shí)間等參數(shù)。在配置好所有參數(shù)之后，單擊“開始”按鈕開始測試過程。
4.測試完成后，將獲得二氧化硅含量的數(shù)據(jù)，并且顯示在屏幕上，可保存該數(shù)據(jù)以供參考和分析。
5.測試過程結(jié)束后，需要對設(shè)備進(jìn)行清潔工作，以便下次使用，清洗步驟需要謹(jǐn)慎按照設(shè)備說明書的要求進(jìn)行。
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