技術參數:
1. 真空室:∅220mm*H400mm;
2. 可鍍最大工件尺寸:60*60mm,配抽拉式樣品臺, 樣品可旋轉;另配備銅基板樣品臺;
3. 真空系統:機械泵+分子泵抽氣系統; 極限真空度:優于 5*10-5Pa;
4. 抽氣時間:大氣壓~8*10-4Pa 小于 30min;
5. 蒸發:電阻式蒸發電極(1 對),可達到 1800℃(只要熔點低于 1600 度的都可以蒸鍍)功率:2KW;
6. 開啟方式:正面開門結構,便于換絲及裝料;
7. 水冷循環系統 0.5P;
注:可根據用戶需要進行配置調整!
2. 可鍍最大工件尺寸:60*60mm,配抽拉式樣品臺, 樣品可旋轉;另配備銅基板樣品臺;
3. 真空系統:機械泵+分子泵抽氣系統; 極限真空度:優于 5*10-5Pa;
4. 抽氣時間:大氣壓~8*10-4Pa 小于 30min;
5. 蒸發:電阻式蒸發電極(1 對),可達到 1800℃(只要熔點低于 1600 度的都可以蒸鍍)功率:2KW;
6. 開啟方式:正面開門結構,便于換絲及裝料;
7. 水冷循環系統 0.5P;
注:可根據用戶需要進行配置調整!
設備結構介紹:
該設備由真空室、真空機組和電氣系統組成
1. 真空室
圓形形腔體,側部抽氣,正面開門。不銹鋼材質,配 DN60 觀察窗(含防污擋板)、預抽接口、充氣接口; 內部有底板、蒸發源等;
2. 真空系統及進氣
采用 110L 分子泵+4L 旋片式機械泵。采用真空波紋管連接,配有復合式數顯真空測量儀表。
3. 電氣系統
電氣系統包括真空機組控制、蒸發與烘烤控制、真空測量控制等部分組成。有安全互鎖機構,有效防止誤操作發生。系統配有 1 套蒸發電源,數顯。
4. 膜厚測量裝置:采用石英晶振膜厚儀及水冷探頭一套(選配)。
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