離子濺射儀為掃描電鏡用戶在制樣過程中提供了更廣泛的選擇,以便適用支持掃描電子顯微鏡所需的涂層要求。在結構設計及人機界面方面更加注重人性,簡單智能。濺射率是描述濺射特性的一個最重要物理參量。它表示正離子轟擊靶陰極時,平均每個正離子能從陰極上打出的原子數。又稱濺射產額或濺射系數,常用S表示。
1、一般工作距離可調,距離越近,濺射速度越快,但熱損傷會增加。
2、離子流的大小通過控制真空壓力實現,真空度越低,I越大,濺射速度越快,原子結晶晶粒越粗,電子轟擊樣品(陽極)產生的熱量越高;真空度越高,I越小,濺射速度越慢,原子結晶晶粒越細小,電子轟擊樣品產生的熱量小。
3、加速電壓為固定,也有可調的,加速電壓越高,對樣品熱損傷越大。一般使用金屬靶材的正比區域。
4、有些熱敏樣品,需要對樣品區進行冷卻,水冷或者帕爾貼冷卻;也可以采用磁控裝置,像電磁透鏡一樣把電子偏離樣品。經過這樣的改造,當然會增加很高的成本。可以在石蠟表面濺射一層金屬,而沒有任何損傷!
5、真空中的雜質越多,鍍膜質量越差。一般黃金比較穩定,可以采用空氣作為等離子氣源,而其他很多靶材則需要惰性氣體為好。
6、氣體原子序數越高,動量越大,濺射越快,但晶粒會較粗,連續成膜的膜層較厚。
7、保持真空室的潔凈對高質量的鍍膜有很大好處。
8、不要讓機械真空泵長期保持極限真空,否則容易反油。
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