HW.SY11-KP3三孔三溫水浴鍋基本用途

來源：鄭州歐諾儀器有限公司 2022年12月02日 09:29

HW.SY11-KP3三孔三溫水浴鍋基本用途適用范圍

本產(chǎn)品、科研單位、實驗室蒸餾、濃縮干燥及恒溫加熱化學品、生物制品、檢查血清和生化實驗，恒溫培養(yǎng)以及對注射器和小型手術(shù)器械進行煮沸消之用。

HW.SY11-KP3三孔三溫水浴鍋基本用途技術(shù)參數(shù)

型號：HW.SY11-KP3（三孔三溫）

規(guī)格：智能

功率：900W

控溫范圍：室溫+5℃～99.9℃

水溫波動性、水溫均勻性：≤±0.5℃

水槽尺寸（mm）：（150×140×90）×3

特點

產(chǎn)品的內(nèi)膽、外殼均采用優(yōu)質(zhì)不銹鋼拉絲板材，溫控系統(tǒng)采用微機PID智能控制，感熱性能強、靈敏度高、水溫波動性、水溫均勻性在±0.5℃范圍內(nèi)

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