手機版
化工儀器網手機版
化工儀器網小程序
官方微信
公眾號：chem17
掃碼關注視頻號
勻膠旋涂儀的運行可以按基片旋轉速度及膠質的變化。用于實驗室項目建設，作為用于除半導體外,還有硅片、芯片、基片、導電玻璃及制版等表面涂覆工藝，科研、教學之用高精度涂敷。原理相對比較簡單，利用電機高速旋轉時所產生的離心力使得試液或者膠液均勻地涂敷在基底材料的表面。
一般來說，勻膠轉速快，時間長，膜厚就薄。影響勻膠旋涂儀旋涂薄膜厚度的因素可能有：
1.將膠液滴注在基底材料的表面。可以通過注射器噴嘴，將待涂覆的溶液或者膠液噴灑或者滴注到基底材料表面。滴注的膠液墨通常要要遠遠超過最終涂覆在表面的膠液量。
2.通過較快較短地加速，使基底材料的旋轉速度，快速達到設定的期望的理想轉速。
1.以設定恒定的速率和時長旋轉基底，通過改變膠液的黏度力來改變薄膜的厚度。
4.以設定恒定的速率和時長旋轉基底，通過膠液的揮發性來改變薄膜的厚度。
5.旋涂時間不變，通過改變旋轉基底的速度，改變薄膜的厚度。
6.旋涂速度不變，通過改變基底旋轉的時間，改變薄膜的厚度。
該設備在勻膠過程中基片的加速度也會對膠膜的性能產生影響。因為在基片旋轉的階段開始，光刻膠就開始干燥（溶劑揮發）了。所以準確控制加速度很重要。
免責聲明
- 凡本網注明“來源：化工儀器網”的所有作品，均為浙江興旺寶明通網絡有限公司-化工儀器網合法擁有版權或有權使用的作品，未經本網授權不得轉載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經本網授權使用作品的，應在授權范圍內使用，并注明“來源：化工儀器網”。違反上述聲明者，本網將追究其相關法律責任。
- 本網轉載并注明自其他來源（非化工儀器網）的作品，目的在于傳遞更多信息，并不代表本網贊同其觀點和對其真實性負責，不承擔此類作品侵權行為的直接責任及連帶責任。其他媒體、網站或個人從本網轉載時，必須保留本網注明的作品第一來源，并自負版權等法律責任。
- 如涉及作品內容、版權等問題，請在作品發表之日起一周內與本網聯系，否則視為放棄相關權利。
采購中心