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近些年，近紅外光譜分析技術(shù)得到了迅猛發(fā)展，該技術(shù)可直接對氣體、液體和固體等各種復(fù)雜混合物進(jìn)行定性和定量分析，具有分析速度快、效率高，可實(shí)現(xiàn)無損和在線分析等優(yōu)勢，在科研和工農(nóng)業(yè)生產(chǎn)中發(fā)揮著越來越重要的作用。
盡管近紅外光譜儀具有很高的精度，但是由于許多因素的影響，仍然存在一定的誤差，那么如何才能巧妙地避免的誤差呢？
1、系統(tǒng)誤差的來源
(1)當(dāng)標(biāo)準(zhǔn)樣品和樣品的含量和化學(xué)組成不*相同時，可能會導(dǎo)致矩陣線和分析線的強(qiáng)度發(fā)生變化，從而引入錯誤。
(2)當(dāng)標(biāo)準(zhǔn)樣品的物理性質(zhì)和樣品的物理性質(zhì)不*相同時，激發(fā)的特征譜線將不同，這將導(dǎo)致系統(tǒng)誤差。
(3)當(dāng)處于澆鑄狀態(tài)的鋼樣品的金屬結(jié)構(gòu)與處于退火，淬火，回火，熱軋和鍛造狀態(tài)的鋼樣品的金屬結(jié)構(gòu)不同時，測得的數(shù)據(jù)將有所不同。
(4)未知元素光譜的重疊干擾。例如，在熔煉過程中添加脫氧劑和脫硫劑時，未知的合金元素會混入系統(tǒng)中，從而導(dǎo)致系統(tǒng)誤差。
(5)為了消除系統(tǒng)誤差，有必要嚴(yán)格遵守標(biāo)準(zhǔn)樣品制備的要求。為了檢查系統(tǒng)錯誤，有必要使用化學(xué)分析方法來分析多次校對的結(jié)果。
2、偶然誤差的來源
與樣品成分不均勻有關(guān)的誤差。由于光電光譜分析消耗的樣品很少，因此樣品中元素分布的不均勻性和組織結(jié)構(gòu)的不均勻性會導(dǎo)致不同部位的分析結(jié)果不同，并偶爾出現(xiàn)誤差。
(1)在熔煉過程中引入夾雜物，導(dǎo)致偏析導(dǎo)致樣品中元素分布不均。
(2)樣品的缺陷，氣孔，裂縫，水泡等。
(3)諸如交叉研磨模式，樣品研磨的過熱，樣品研磨表面的時間過長以及指紋等因素。
(4)為了減少意外誤差，必須仔細(xì)取樣以消除樣品的不均勻性和樣品的鑄件缺陷。也可以重復(fù)分析幾次以減少分析誤差。
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