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ICP的基本結(jié)構(gòu)包括：等離子體光源、進(jìn)樣系統(tǒng)、氣體控制系統(tǒng)、光學(xué)系統(tǒng)、檢測器和數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)，每一部分又包括著不同的部件，如進(jìn)樣系統(tǒng)里的矩管、霧化器和霧室等。
光譜儀在使用之后應(yīng)該如何有效清洗配件結(jié)構(gòu)？
進(jìn)樣系統(tǒng)的清洗
1矩管的清洗
(1)鹽分沉積——將矩管倒扣，放入裝有1：1硝酸的燒杯中浸泡24小時，以除去矩管上的積鹽；
(2)金屬沉積——卸下石英矩管，將噴嘴進(jìn)入熱酸中(稀王水、硝酸或鹽酸)中；
(3)碳沉積——將矩管放入750℃馬弗爐中，打開馬弗爐幾秒鐘，讓空氣進(jìn)入，再次將溫度升至750℃。重復(fù)幾次以清除碳沉積，待馬弗爐冷卻后，再將石英矩管取出。清洗后，使用去離子水沖洗，吹干。
2霧室和霧化器的清洗
(1)玻璃混合霧化室的清洗
如果霧化室壁上有掛水珠，這些大液滴排出時，會引起霧化室內(nèi)壓力變化從而導(dǎo)致樣品霧化效率降低。因此，可以拆除霧室，浸泡于10%左右的稀硝酸中，保持低溫微沸煮半小時以上，再用去離子水清洗，吹干。
(2)霧化器堵塞的去除
①將進(jìn)樣管拆除，霧化器噴嘴朝上輕輕敲擊以使顆粒物松散，并在重力作用下排出；
②在噴嘴處接入壓縮空氣(15~30psig)“反吹”噴嘴和環(huán)面，用手指堵住進(jìn)樣口和載氣口，然后突然釋放進(jìn)樣口以清除毛細(xì)管顆粒堵塞，或突然釋放載氣口以清除載氣顆粒堵塞；
③在噴嘴處反向通入異丙醇，使顆粒物流出；
④氣路中可能有PTEE碎屑時，將霧化器噴嘴浸到熱水中，并在側(cè)壁加壓，熱水使聚合物分散并從噴嘴排出；
⑤對于硅類顆粒堵塞，可使用3%~5%氫氟酸清洗，吸取清洗液5~10秒后，立即用大量清水沖洗，重復(fù)3~5次。注意：氫氟酸有毒性，使用時應(yīng)戴好手套，做好防護(hù)措施，氫氟酸清洗的時間和濃度要準(zhǔn)確控制，清洗后應(yīng)*清除氫氟酸并使霧化器干燥，以防止氫氟酸對噴嘴處毛細(xì)管的腐蝕。
⑤切勿使用超聲波清洗霧化器，因為毛細(xì)管中會有共振，碰到噴嘴的內(nèi)壁會使毛細(xì)管口破裂，霧化器性能大大降低。
循環(huán)冷卻水機清洗
冷卻水的溫度設(shè)置一般要比室溫低5℃，每小時的溫度變化不超過0.2℃，至少每半年進(jìn)行一次清洗，清洗步驟如下：
①從儀器回流到冷水機的進(jìn)水端處卸下管子；
②旋開排水口閥門，排凈水箱中的水；
③在水箱中加入去離子水至水箱綠色和黃色刻線中間；
④旋上排水口閥門，接好進(jìn)水端管子，打開電源，清洗系統(tǒng)。
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