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橢偏儀是一種用于探測薄膜厚度、光學常數以及材料微結構的光學測量儀器。由于測量精度高，適用于超薄膜，與樣品非接觸，對樣品沒有破壞且不需要真空，使得橢偏儀成為一種JI具吸引力的測量儀器。
基本原理：
橢偏儀利用偏振光測量薄膜或界面參量，通過測量被測樣品反射(或透射)光線偏振狀態的變化來獲得樣品參量。
橢偏儀的應用：
由于測量精度高，適用于超薄膜，與樣品非接觸，對樣品沒有破壞且不需要真空，使得橢偏儀成為一種JI具吸引力的測量儀器。橢偏儀/橢圓偏振儀現在已被廣泛應用于材料、物理、化學、生物、醫藥等領域的研究、開發和制造過程中。
可測材料：半導體、介電材料、有機高分子聚合物、金屬氧化物、多層膜物質和石墨烯等等。
橢偏法測量具有如下特點：
1.能測量很薄的膜（1nm），且精度很高，比干涉法高1-2個數量級。
2.是一種無損測量，不必特別制備樣品，也不損壞樣品，比其它精密方法：如稱重法、定量化學分析法簡便。
3.可同時測量膜的厚度、折射率以及吸收系數。因此可以作為分析工具使用。
4.對一些表面結構、表面過程和表面反應相當敏感。是研究表面物理的一種方法。
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