大多數光學實驗或工業生產都對系統穩定性有較高的要求。各種因素造成的振動會導致儀器測量結果的不穩定性和不準確性，嚴重干擾生產和實驗的進行，振動來源主要分為來自系統之外的振動和系統內部的振動，地面固有振動，工作人員踩踏地板以及開、關門或墻壁碰撞等通過地面傳來的振動均屬系統之外的振動，這一類振動需通過光學平臺的隔振支架衰減；而來自系統內部的振動包括儀器振動、氣流、冷卻水流等，則需依靠光學平臺的桌面阻尼來隔絕。

 隨著光學加工設備和測量儀器精度的不斷提高， 其對工作環境的振動隔離提出了更加嚴苛的要求。例如，離子激光器泵浦噴流染料激光器時，激光器的振動要求達到了微米級；由于可見光波長約為0.5微米，即使振動在次微米級別時，以光的干涉為基礎的實驗（如全息攝影） 也將無法進行； LμmArray 公司的并行激光直寫設備的直寫頭振動線位移不能超過15nm ;超精密機械加工的表面粗糙度要求已經達到 0.1nm  ;高精度掃面探針顯微鏡的雙向分辨率都已達到亞納米級。因此，對光學加工設備及光學測量儀器進行有效的隔振是保證科研生產活動正常進行的必要條件。

主要特點

◆臺面整體采用三層夾心結構，上臺面為410鐵磁不銹鋼，中心為蜂窩/井字鋼支撐結構，底板為碳鋼，在保證隔振性能得同時，提高了剛性、穩定性，臺面精磨

◆平臺支架采用整體焊接式四支撐結構，上方帶有三加一調整結構，支架下方具有高度調整功能，調整范圍±15mm

◆隔振支架可以選裝*腳輪，方便移動

◆蜂巢式的設計大大的減輕了光學隔振平臺重量，剛性卻有所增加，保持了較高的限度的機械穩定性，提高了阻尼

◆臺面上的M6安裝孔陣列用于固定各種光學部件，公制孔距為25毫米，英制孔距為1英寸

技術參數

◆水平方式：手動調平

◆平面度：≤0.5mm/600mm×600mm

◆固有頻率8-10Hz

◆臺面厚度：50/100/200mm

應用

◆光學實驗 ◆光靶實驗 ◆對振動要求不高得儀器設備