光刻膠（Photoresist）又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。在光刻工藝過程中，用作抗腐蝕涂層材料。半導體材料在表面加工時，若采用適當的有選擇性的光刻膠，可在表面上得到所需的圖像。光刻膠按其形成的圖像分類有正性、負性兩大類。在光刻膠工藝過程中，涂層曝光、顯影后，曝光部分被溶解，未曝光部分留下來，該涂層材料為正性光刻膠。如果曝光部分被保留下來，而未曝光被溶解，該涂層材料為負性光刻膠。按曝光光源和輻射源的不同，又分為紫外光刻膠（包括紫外正、負性光刻膠）、深紫外光刻膠、X-射線膠、電子束膠、離子束膠等。光刻膠主要應用于顯示面板、集成電路和半導體分立器件等細微圖形加工作業 [6] 。光刻膠生產技術較為復雜，品種規格較多，在電子工業集成電路的制造中，對所使用光刻膠有嚴格的要求。 [2]

光刻膠對光敏感，在光照或高溫條件下其性能會發生變化。光刻膠在儲存過程中會老化，因此通常保存在防光的棕色玻璃試劑瓶中（部分電子束膠由于對紫外波段不感光，有可能直接使用白色塑料瓶包裝），冷藏保存，并且紫外光刻膠只能在黃光（λ> 500 nm）下進行處理。通常一款光刻膠的失效日期和建議的存儲溫度會標注產品標簽上。如果保持在這些溫度下，未開封的光刻膠將穩定到有效期（通常是生產后的2年，視產品不同略有不同）。通常光刻膠銷售時會有一個承諾有效日期，這個日期往往會小于瓶示質保期。需要區分。

溫度：對于絕大多數紫外光刻膠而言，通常建議的保存條件是5-10℃下保存（除制造商要求的特殊保存溫度外）。如果未打開的瓶子在低于最佳溫度的條件下（例如，在5 – 8°C的溫度下與建議的10 – 18°C的溫度相比）存儲，則可以使一些光刻膠，在超過其有效期限外還可以保持光刻膠的特性并使用。

如果頻繁打開光刻膠試劑瓶會導致溶劑蒸發，光刻膠會增稠并因此產生較厚的膜。對于膜厚為1.4 µm的光刻膠，僅損失1％的溶劑就已經導致4％的膜厚，因此帶來的影響是需要更高的曝光劑量。所以建議按照實際使用的量進行購買相應包裝規格的光刻膠。

如果已經購買了較大包裝的光刻膠，可以分裝在干凈的小瓶中，減小光刻膠開蓋次數，大瓶子應該密封好并保存于冷藏室中。另外，小瓶光刻膠可以使用錫箔紙包裹，并備注好相關信息存儲。瓶子的清洗步驟：①丙酮(去除有機雜質);②異丙醇(清洗污染的丙酮殘留物)。揮發較慢的異丙醇會破壞光刻膠，因此在裝入光刻膠之前必須保證瓶中無異丙醇殘留。

試劑瓶的選擇：只有合適的塑料(無染色的特氟龍，無增塑劑的HD-PE)或低鈉玻璃容器可用于儲存、轉移和分配光刻膠。光刻膠分裝后到使用前，根據粘度的不同，建議等待幾個小時，以便引入的氣泡能夠脫氣，從而避免在在涂膠時出現氣孔等缺陷。

稀釋：稀釋光刻膠會加速光刻膠的老化，因此建議合理計算使用稀釋膠的量，按需求稀釋，避免出現浪費。另外，稀釋應該盡快完成，避免引入顆粒污染物。最后和分裝一樣，稀釋的過程中不可避免的引入了氣泡，需要用過靜置一段時間，讓氣泡逸出后方可使用。

從冰箱中取出后，在任何情況下都不要立即打開瓶子，因為空氣中的水汽會凝結在過冷的光刻膠表面，后續會形成氣泡等缺陷。因此打開之前，應將瓶子在室溫中自然恢復至室溫再打開瓶蓋。

對于顯影液：水溶性顯影液應該防止冷凍，即使偶爾的非存儲條件也并不會導致顯影液失效。有機顯影液，請按照瓶示存儲條件存儲。對于一些對溫度感的有機溶劑如二甲基亞砜（DMSO）的熔點剛好低于室溫，所以可能會在較冷的房間里冷凍。解凍可能需要幾天時間，但解凍后產品仍可照常使用。

對于添加緩沖試劑的氫氟酸(BOE)，在較低溫度的環境下易結晶，當然這取決于氟化氫濃度。 解凍后BOE任然可以使用。但是由于這些小晶體在幾天后仍然存在，它們會沉淀在基片上并形成顆粒，所以處理時必須小心。