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離子濺射儀是采用離子濺射的方式進行鍍膜的儀器。濺射的定義是用帶有幾百電子伏特以上動能的粒子或粒子束轟擊固體表面，使靠近固體表面的原子獲得入射粒子所帶能量的一部分而脫離固體進入到真空中，這種現象稱為濺射。濺射一般是在輝光放電過程中產生的，輝光放電是濺射技術的基礎。
一、影響濺射率的因素
濺射率是描述濺射特性的一個最重要物理參量。它表示正離子轟擊靶陰極時，平均每個正離子能從陰極上打出的原子數。濺射率與入射離子的種類、能量、入射角度及靶材的類型、晶格結構、表面狀態、升華熱大小等因素有關，單晶靶材還與表面取向有關。
二、離子濺射儀常見故障，分以下四種：
1、故障現象：使用一段時間后，濺射電流變小
解決方法：對靶材有無變色、破裂和油污等現進行檢查。前兩者對靶材進行更換，后者被油蒸汽污染，通過無水乙醇進行清潔，等到干了以后才能夠抽真空。
2、故障現象：在使用一段時間以后，有著過低的真空。
解決方法：對濺射室中或管道內是否有油進行檢查，能夠使用汽油進行清洗。
3、故障現象：濺射電流不穩定忽高忽低
解決方法：陰極罩與靶的固定環有著過近的距離，將陰極罩逆時針旋轉，對間距進行調整。
4、故障現象：有著過低的真空
解決方法：將放氣閥、漏氣閥和觀察泵的油窗液面旋緊。
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