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日本本多HONDA兆聲超聲波清洗原理及超聲波清洗的機理
在通過超聲波進行的超聲波清洗中，水分子被加速并撞擊工件，并且該沖擊導致顆粒從工件上分離。頻率越高，效果越好，并且對于剝落粘附力較弱的非常細的顆粒有效。加速度與頻率的平方成正比地增加，并且波長也減小，這對于更細的粒子是有效的。
它主要是中高頻的清潔動作。
當施加超聲波時，根據頻率在液體中產生“駐波”。λ/ 2的每個整數倍都會導致大量污垢脫落。（Λ為一個波長）
去除污垢可能會損壞工作。為了減少駐波的影響，還考慮了工作擺動和多頻振蕩。必須以平衡的方式確定清除污垢的難易程度和對工件的損壞。
半導體晶圓的批處理清洗
這是一種通過將多個晶片放置在MHz頻帶的超聲清洗槽中來同時清洗多個晶片的方法。
（1）由于一次可以清洗許多晶片，因此可以縮短時間；
（2）與單晶片類型相比，清洗液的量相對較??；
（3）這種方法易于使用，例如雙層坦克已經成為主流。
通常，當以批處理方式使用化學溶液時，通常使用以清洗槽和石英槽的雙重結構間接照射的浸入式清洗。另外，通過使用石英罐，可以獲得避免金屬離子和雜質溶出并保持清潔度的效果。
然而，已經出現了分批式清潔的問題，例如由于基板尺寸的增加而導致設備尺寸的增加以及由于基板圖案的小型化而導致的顆粒的重新附著。
下一代清潔技術，損傷小，清潔度高
2006年，本田電子公司開發了一臺石英振蕩器式超聲波清洗裝置。在該方法中，通過將超聲波疊加在石英晶體振蕩器上來清潔半導體晶片。與間歇式和流水式相比，可以減少化學藥品的使用量，并且濕部件僅由石英玻璃和耐化學性樹脂制成，并且填料等橡膠材料不會與液體接觸，所以很干凈，我會的。另外，通過改變晶體振蕩器的形狀，可以滿足需要的有效清潔，例如低損傷清潔，大面積清潔以及難以去除的斜面（端面）和凹口（晶圓末端的凹口）的清潔。臉），應該執行。
創自來水型清洗
1986年由我們公司在一次開發。通過將MHz頻段的高頻超聲波疊加在從噴嘴前端輻射的自來水上，可以精確地清潔工件。輻射的自來水起著傳播媒介的作用，用于在傳播超聲波的同時，通過超聲波的作用剝離的污物。
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