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散射式近場光學顯微鏡建立在基于具有*地位的納米光學表征工具原子力顯微鏡AFM的基礎之上。s-SNOM設計具有非常優秀的性能，高度集成，全面自動化，使用靈活，為研究生產力和易用性設定了新的標準。
特別適用于硬質材料，特別是具有高反射率、高介電常數或強光學共振的材料，可以完成對所有物質納米尺度的化學性質分析及探索。
散射式近場光學顯微鏡的分辨率僅由AFM針尖的曲率半徑決定，與入射光源的波長無關，能夠在可見、紅外和太赫茲光譜范圍內，提供佳10nm空間分辨率的光譜和近場光學圖像。
產品特點：
10nm空間分辨率近場成像和光譜；
特殊的快速成像和采譜技術，10倍于傳統的空間光譜成像；
特殊的背景壓制技術和高效光學信號收集技術，確保在10nm空間分辨率下仍然保持*的信噪比；
預先校準光路，操作極其簡便；
模塊化設計，可拓展性強；
散射式近場光學顯微鏡重要應用領域：
研究樣品化學組成；
低維體系表面激發（石墨烯/六方氮化硼等）；
極性晶體；
半導體納米器件：納米天線/納米線/納米顆粒；
超材料；
高分子/蛋白質/生物材料。
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