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勻膠旋涂儀主要用于液體，膠體在材料表面薄膜的形成，適用于硅片，晶片，玻璃，陶瓷等制版表面涂覆工藝。可在科研，教育，生產中應用。勻膠旋涂儀主要用微細加工、半導體、微電子、光電子和納米技術工藝中在硅片、陶瓷片上勻膠等工藝與光刻、烘烤等設備配合使用。
勻膠旋涂儀的工作原理是高速旋轉基片，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻的涂在基片上，勻膠機常用于各種溶膠凝膠實驗中的薄膜制作，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數而不同，也和旋轉速度及時間有關。一般來說，勻膠轉速快，時間長，膜厚就薄。影響勻膠過程的可變因素很多，這些因素在勻膠時往往相互抵銷并趨于平衡。所以*好給予勻膠過程以足夠的時間，讓諸多影響因素達到平衡。
華儀行提供的Ossila勻膠旋涂儀，操作簡單，方便實用，旋涂均勻，結構小巧緊湊，為實驗室提供了理想的解決方案，其采用創新設計的非真空卡盤式旋涂吸盤，無需真空泵或充氮氣，就能達到很好的旋涂效果。
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