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在半導體芯片領域，光刻系統的分辨率比目前3D打印系統的分辨率至少高三～四個量級。如何將光刻技術的高分辨率特點應用于3D打印，在提高精度的同時支持微結構的大面積打印？如何降低對材料特性依賴，提升3D打印保真度和可靠性，適應多材料使用，這就是該項目創新的重要意義。將微光刻技術、精密涂層工藝和大數據處理技術引入3D打印，實現了微納3D打印的三大創新。
首先，提出了柔性薄膜送膠與涂層工藝相結合，常規膠層厚度1微米-10微米，理論上，膠厚可控制到亞微米。薄膜送膠的特點是每層打印的圖形獨立曝光，層與層間的曝光互不影響，根本上消除了傳統光固化3D打印累積曝光對結構展寬的影響，實現了高深寬比、密集微結構的高保真3D打印。
第二，提出了將縮微投影光學系統、大數據設計處理與3D分層曝光技術相結合，常規圖形分辨率0.5微米-2微米，理論上，可做達0.2微米。采用空間光調制、大數據壓縮與掃描拼接曝光技術，攻克了高分辨率圖形大面積打印的難題，從而，實現了3D打印的高精度與大面積的協同。
第三，提出了多噴頭供膠模式，控制打印涂層厚度及組合，在逐層打印時，提供不同特性、不同成分的打印材料，降低了對材料特性的依賴，實現多全新功能材料3D打印，材料消耗和價格大幅下降。
德國Nanoscribe公司在2019慕尼黑光博會展LASERWorldofPhotonics上發布了全新工業級雙光子灰度光刻微納打印系統QuantumX，并榮獲創新獎。該系統是世界first基于雙光子灰度光刻技術（2GL®）的精密加工微納米打印系統，可應用于折射和衍射微光學。
德國Nanoscribe公司在2019慕尼黑光博會展LASERWorldofPhotonics上發布了全新工業級雙光子灰度光刻微納打印系統QuantumX，并榮獲創新獎。該系統是世界first基于雙光子灰度光刻技術（2GL®）的精密加工微納米打印系統，可應用于折射和衍射微光學。
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