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立式氣氛爐是一種先進實驗設備，適用于金屬，納米，單晶硅，多晶硅，電池等的擴散焊接以及真空氣體保護下，氣氛熱處理的加熱設備。主要用于材料試驗、合成、燒結等。爐體保溫性能良好，節能*。立式氣氛爐適用于工礦企業、大專院校，科研院所及實驗室作真空或氣氛狀態下燒結各種新材料樣品用。可供化學分析、物理測定，以及金屬、陶瓷的燒結和熔解、小型鋼件等加熱、焙燒、烘干、熱處理用。
立式氣氛爐還可用于、復合材料、粉體材料、結構陶瓷、合金的真空熱壓燒結。
立式氣氛爐清洗方法和步驟
真空泵預抽真空法：
1.把任何一個出氣嘴與真空用軟管連接起來;
2.對立式氣氛爐的爐腔進行預抽真空;
3.通入保護氣體;
4.再對爐腔進行預抽真空;
5.如此循環幾次以達到爐膛內氣氛要求。
保護氣體替換法：
1.保護氣體一般應在立式氣氛爐升溫前通入爐內；
2.保護氣體可通過上、下、后三個洗爐口通入，應將排氣口的針閥開至大，以利于爐內空氣盡快排出；
3.一般向爐內通入爐膛容積10倍左右的保護氣體，可使爐內氧濃度降至10ppm左右；
4.當爐內氧濃度符合產品工藝要求時，可將排氣口的針閥關小，以節約保護氣,關閉洗爐口,由進氣口通過流量計進入；
5.在立式氣氛爐使用過程中，爐膛內必須維持正壓，以防爐外空氣進入爐膛；
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