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四氟化碳分析氦離子色譜儀適用于高純四氟化碳中痕量雜質的檢測，小檢測濃度可達5ppb。四氟化碳分析氦離子色譜儀配備高靈敏的氦離子化檢測器，采用*的中心切割技術，進樣閥均帶有吹掃保護氣路；整機采用多柱箱設計，并配備進樣壓力自動校正系統，不同底氣的樣品的進樣量一致。
四氟化碳分析氦離子色譜儀適用于高純四氟化碳中H2、O2（Ar）、N2、CH4、CO、CO2、SF6、C2F6、C3F8等痕量雜質的檢測，儀器配備高靈敏度的氦離子化（PDHID）檢測器，采用中心切割與反吹技術，配置具有吹掃保護氣路的進樣切換閥和進口氦氣純化器，通過無死體積取樣或在線進樣方式，一次性完成高純氨中雜質的檢測，檢測限達ppb級，重復性RSD≤1％。
四氟化碳分析氦離子色譜儀適用于高純四氟化碳中H2、O2（Ar）、N2、CH4、CO、CO2、SF6、C2F6、C3F8等痕量雜質的檢測，儀器配備高靈敏度的氦離子化（PDHID）檢測器，采用中心切割與反吹技術，配置具有吹掃保護氣路的進樣切換閥和進口氦氣純化器，通過無死體積取樣或在線進樣方式，一次性完成高純氨中雜質的檢測，檢測限達ppb級，重復性RSD≤1％。
四氟化碳分析氦離子色譜儀系統配置：
（1）GC-9560-HG四氟化碳分析氦離子色譜儀
（2）氦離子化檢測器（PDHID）
（2）氦離子化檢測器（PDHID）
（3）中心切割系統
（4）多柱箱系統
（4）多柱箱系統
（5）氦氣純化器
（6）標準氣體
（6）標準氣體
（7）色譜柱
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