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    在半導(dǎo)體設(shè)備的生產(chǎn)過(guò)程中，許多流程中都要用到各種酸類(lèi)試劑。其中重要的是鹽酸（HCl），其主要用途是與過(guò)氧化氫和水配制成混合物用來(lái)清潔硅晶片的表面。由于半導(dǎo)體設(shè)備尺寸不斷縮小，其生產(chǎn)中使用的試劑純度變得越來(lái)越重要，這是因?yàn)榧词故巧倭侩s質(zhì)也會(huì)導(dǎo)致設(shè)備的失效。常規(guī)的測(cè)定條件下，氬、氧、氫離子會(huì)與酸基體相結(jié)合，對(duì)待測(cè)元素產(chǎn)生多原子離子干擾。

    珀金埃爾默公司的NexION 2000 電感耦合等離子體質(zhì)譜儀（ICP-MS）可提供多種*消除多原子離子干擾的方式。在鹽酸分析中，除去氯的干擾是至關(guān)重要的，目前有效的反應(yīng)氣是高純氨氣和高純氧氣。

    本文介紹了NexION 2000 ICP-MS 對(duì)半導(dǎo)體級(jí)鹽酸進(jìn)行雜質(zhì)分析的應(yīng)用案例，*可以滿足或超越SEMI 標(biāo)準(zhǔn)。