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使用ICP-OES測定半導體級磷酸中的各種元素

閱讀:709      發布時間:2020-03-24
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    在半導體產品的制造中,試劑的純度至關重要,因為污染物的存在會影響終產品的性能。磷酸通常用于生產各種半導體材料,因此,需要按照SEMI C36-1107 3 級要求的規定測量痕量污染物。

 

    由于其粘度、組成和濃度的原因,磷酸的分析具有挑戰。在基質組成和測量水平的共同要求下,ICP-OES 成為磷酸分析的工具。

    本文描述了用ICP-OES 分析磷酸以滿足SEMI 要求。

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珀金埃爾默企業管理(上海)有限公司

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