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功能

• 表征和鑒別小顆粒
• 非常適合于顆粒污染物的鑒定
• 對透明和半透明樣品進行高分辨深度剖析和次表面分析，非常適合于涂層、多層材料、薄膜、包裹體和次表面的缺陷分析
• 有機和無機樣品 — 低至 50cm-1 的寬光譜范圍測量特別適合于無機物的表征，因為它們通常在低頻譜帶有振動峰
• 分子形態表征 —比較典型的為碳和硅的分子骨架表征，利用拉曼光譜可以非常有效地鑒別藥物和礦物的各種晶型，區分硅的結晶態和無定型態，以及表征各種碳納米材料
• 表面區域和橫切面的表征可以借助于于 x-y 軸拉曼成像和 x-z 軸拉曼成像
• 透過玻璃和塑料包裝進行測量 — 允許直接透過證據袋、安瓿瓶和防護涂層進行測量
• 使用光纖探針可以對樣品倉無法容納的大樣品進行遠程取樣
• 儀器上的 GO（執行）按鈕可提供一鍵式操作
• 所有數據收集、處理和生成報告步驟都可通過GO存儲，因此用戶在顯微鏡下置入樣品后，只需一個按鈕就可以自動生成報告，無需在計算機上進行操作
• 支持表面增強拉曼 (SERS) 測量
• 激光器、濾光片和光柵等智能模塊都屬于用戶可自行更換的部件，而且還可以與其他 DXR 儀器共享

激光安全性

• 顯微鏡為一級激光安全認證。 （注： 光纖附件和一些其他的附件為3B 級激光裝置，需要激光防范措施和激光安全護目鏡。）
• 觀察時，激光被護目鏡物理阻擋在視徑外，以防止眼睛直接暴露于激光。

驗證

• 備有 DQ/IQ/OQ/PQ 驗證包，包括各種驗證文檔和自動化軟件協議
• Omnic D/S 軟件符合 CFR 21 Part 11 規范

的性能

• 空間分辨率——樣品的理想空間分辨率可以優于 540nm
• 縱向分辨率——樣品的理想縱向分辨率可以優于 1.7μm
• 通過對 CCD 的單次曝光即可獲取 3500-50cm-1 的光譜范圍，避免接譜產生的贗譜。 采用532nm激發，擴展光譜范圍可達 6,000cm-1
• 支持多個激光器。 532nm、633nm 和 780nm
• 針對所有激發波長的自動熒光校正功能
• 研究級 Olympus 光學顯微鏡
• 自動強度校正功能使不同儀器和不同激發波長的拉曼光譜具有可比性
• 多點波長校準功能為全譜范圍的波長提供精確的校準
• 的三重光學光譜儀設計提供*峰形并保證所有波長的高共焦
• 通過軟件控制共聚焦和高性能光譜采集模式之間的自由切換
• 的宇宙射線自動扣除功能和高質量激光線濾光片確保獲取無贗譜的光譜
• 去偏振的激光激發可避免樣品取向效應所帶來的光譜偏差
• 激光功率調節器能對激光功率實時監控，確保在激光器的使用壽命期間，甚至在更換激光器后激光能量的重復性
• 針對每個激發波長優化光柵，避免多個激發波長共用一塊光柵所帶來的性能犧牲
• 的自動準直功能確保儀器性能的日日如新
• 的智能背景自動扣除功能消除了 CCD 暗電流對光譜圖的影響。

推薦用途：

• 司法鑒定 — 痕跡物證和違禁藥物鑒定
• 制藥行業 — 多晶型、顆粒污染物和擴散研究
• 藝術品修復/保存 — 鑒別和表征顏料、樹脂、釉彩以及油墨
• 考古學 — 表征角質物、貝殼、骨頭和陶瓷仿制品
• 太陽能 — 硅結晶度；光伏材料的表征
• 聚合物 — 包裹體和凝膠缺陷、風化作用、層壓材料連接層以及結晶度
• 故障分析 — 界面顆粒和微區表征。
• 寶石學 — 彩色寶石的快速 鑒定，區分天然和合成鉆石、表征包裹體和摻雜物
• 納米技術 — 表征石墨烯、碳納米管、DLC 涂層和其他納米結構
• 學術研究 — 在材料科學、生物學研究和許多應用研究領域特別有用